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文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇蓝宝
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  • 1篇成核

机构

  • 2篇中国电子科技...

作者

  • 2篇徐永宽
  • 2篇程红娟
  • 2篇于祥潞
  • 1篇杨丹丹
  • 1篇刘金鑫
  • 1篇赖占平
  • 1篇严如岳
  • 1篇殷海丰
  • 1篇杨巍
  • 1篇岳洋
  • 1篇张峰
  • 1篇李强

传媒

  • 1篇半导体技术
  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2008
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
蓝宝石衬底上HVPE-GaN表面形貌研究被引量:3
2008年
通过研究蓝宝石衬底上HVPE-GaN的表面形貌,指导HVPE-GaN工艺。工艺是在自制的立式HVPE设备上进行的,通过显微镜观察了各种不同工艺条件下的GaN表面形貌。发现不采用成核层直接生长的GaN表面粗糙为多晶,而采用低温成核层所得到的GaN表面随着Ⅴ/Ⅲ比由大到小,从包状表面向坑状表面过渡,通过选择合适的Ⅴ/Ⅲ,可以得到表面光滑、无色透明的GaN。其XRD摇摆曲线半高宽为450 arcs,表面粗糙度为0.9 nm。
徐永宽程红娟杨巍于祥潞赖占平严如岳
关键词:氮化镓氢化物气相外延表面形貌
HVPE法生长AlN薄膜材料被引量:2
2010年
利用自制立式HVPE设备,在蓝宝石衬底上进行了不同载气情况下AlN的生长试验,生长温度1 000℃。在采用H2作载气情况下,由于预反应严重,没能生长出AlN薄膜,只得到一些白色AlN粉末;而在分别采用Ar和N2作载气的情况下,则成功生长出AlN薄膜,但由于生长温度低,AlN生长均为岛状生长模式。在生长速率较快时,AlN薄膜是以〈0001〉AlN为主的AlN多晶;而在较低生长速率下,得到的AlN薄膜由为〈0001〉取向的AlN岛组成。试验还发现:用Ar作载气更有利于AlN晶核的横向生长,用N2作载气则有相对高得多的AlN成核密度。
徐永宽李强程红娟殷海丰于祥潞杨丹丹刘金鑫岳洋张峰
关键词:氮化铝载气蓝宝石衬底X射线衍射
共1页<1>
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