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柏松

作品数:114 被引量:14H指数:2
供职机构:中国电子科技集团公司第五十五研究所更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术文化科学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 108篇专利
  • 3篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 46篇电子电信
  • 3篇自动化与计算...
  • 1篇经济管理
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇文化科学

主题

  • 47篇碳化硅
  • 23篇导电类型
  • 15篇刻蚀
  • 14篇沟道
  • 13篇导通
  • 12篇外延层
  • 11篇导通电阻
  • 11篇电阻
  • 11篇自对准
  • 10篇金属
  • 9篇退火
  • 9篇二极管
  • 9篇MOSFET...
  • 8篇氧化层
  • 8篇欧姆接触
  • 8篇功率器件
  • 8篇半导体
  • 8篇掺杂
  • 7篇栅极
  • 7篇MOS型

机构

  • 114篇中国电子科技...
  • 1篇电子科技大学
  • 1篇中国科学院微...
  • 1篇株洲中车时代...
  • 1篇华北电力大学...
  • 1篇扬州国扬电子...
  • 1篇全球能源互联...
  • 1篇北京博电新力...

作者

  • 114篇柏松
  • 51篇黄润华
  • 36篇陈刚
  • 15篇陶永洪
  • 15篇汪玲
  • 14篇李理
  • 11篇刘昊
  • 8篇刘奥
  • 5篇杨勇
  • 4篇王泉慧
  • 4篇刘海琪
  • 4篇李哲洋
  • 3篇蒋幼泉
  • 3篇陈征
  • 2篇董逊
  • 2篇王雯
  • 2篇陈辰
  • 2篇李赟
  • 2篇陈谷然
  • 1篇赵志飞

传媒

  • 2篇半导体技术
  • 1篇科技导报
  • 1篇第九届中国国...

年份

  • 11篇2024
  • 4篇2023
  • 12篇2022
  • 10篇2021
  • 14篇2020
  • 8篇2019
  • 14篇2018
  • 7篇2017
  • 6篇2016
  • 5篇2015
  • 5篇2014
  • 6篇2013
  • 4篇2012
  • 1篇2011
  • 1篇2009
  • 5篇2008
  • 1篇2007
114 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种变掺杂结终端制备方法
本发明公开了一种变掺杂结终端制备方法,通过在介质层表面加工出蚀刻阻挡层,形成了阶梯状介质形貌,再通过离子注入形成了渐变结构的结终端。本发明通过严格控制两层介质的蚀刻速率比,实现了台阶高度的精准控制,避免了由蚀刻速率漂移引...
黄润华柏松陶永洪汪玲
文献传递
碳化硅二极管和MOS管动态测试的限流保护方法及系统
本发明公开了一种碳化硅二极管和MOS管动态测试的限流保护方法,还公开了限流保护系统,包括时序控制器、电流检测装置、驱动器、保护开关和计算机。将限流保护过程分成了五个阶段,通过时序控制器控制这五个阶段进行五段式限流,相比传...
刘奥陈刚柏松
一种改进型SiC平面MOSFET器件的制备方法
本发明公开了一种改进型SiC平面MOSFET器件的制备方法,在传统MOSFET外延表面生长了一层几十纳米的低掺杂外延层,掺杂浓度在1e14cm<Sup>‑3</Sup>量级;该改进型MOSFET器件结构可以极大的提升沟道...
柏松杨同同黄润华
一种集成SBD结构的单侧MOS型器件制备方法
本发明公开了一种集成SBD结构的单侧MOS型器件制备方法,通过引入特殊角度沟槽制备工艺,倾斜角度单侧离子注入工艺,与欧姆工艺兼容的肖特基金属工艺,实现了集成SBD结构的SiC沟槽MOSFET器件的制备。本发明将碳化硅SB...
李士颜柏松黄润华刘昊
文献传递
不对称沟槽型碳化硅MOSFET功率器件及其制备方法
本发明公开了一种不对称沟槽型碳化硅MOSFET功率器件及其制备方法,包括设于所述第一导电类型碳化硅外延层中部上方且贯穿所述第一导电类型源区并将所述第一导电类型源区分成两部分的栅沟槽;设于所述栅沟槽两侧壁与底部的栅介质层;...
张跃柏松李士颜张腾黄润华杨勇
15kV SiC IGBT芯片常温动态特性测试被引量:1
2020年
与传统的硅基器件相比,碳化硅绝缘栅双极型晶体管(SiC IGBT)具有更小的导通电阻、更高的耐受电压以及更快的开关速度。由于这些优异的特性,SiC IGBT在电力行业有较大的市场需求。基于一款自主研发的15 kV SiC IGBT芯片,测量了芯片的静态特性,搭建了芯片的动态特性测试平台,测量了常温下该15 kV SiC IGBT芯片在2000~9000 V下的动态特性参数,包括开关时间和开关损耗,分析了芯片开关特性参数与外接高压直流源电压的关系,为该型号IGBT芯片性能的进一步改进、优化提供了实验支撑。
杜泽晨吴沛飞任志军杨晓磊张一杰赵志斌柏松杨霏
关键词:动态特性开关特性
一种金属电极结构的实现方法
本发明公开了一种金属电极结构的实现方法,该方法包括:通过金属化方法形成钛铝双层金属,其中钛金属设于底层,位于衬底表面,铝金属设于顶层,位于钛金属表面;涂覆光刻胶,并光刻出掩膜图形;基于单片式湿法喷雾腐蚀系统,使用特定的腐...
张宏伟栗锐陈征柏松杨勇费晨曦
文献传递
一种改善碳化硅台面底部的刻蚀方法
本发明是一种改善碳化硅台面底部的刻蚀方法。其工艺包括:一、在碳化硅外延层上形成一层介质膜;二、在介质膜上涂覆光刻胶,通过光刻工艺形成台面的图形转移;三、光刻胶作为阻挡层,采用第一种条件干法刻蚀介质膜;四、过刻蚀介质膜到碳...
陈刚李理刘海琪柏松
一种大尺寸台面结构的碳化硅PiN二极管及其制备方法
本发明公开了一种大尺寸台面结构的碳化硅PiN二极管及其制备方法,制备方法包括:在第一掺杂类型衬底上生长第一掺杂类型层;在第一掺杂类型层的表面生长第二掺杂类型层;在第二掺杂类型层的表面注入形成额外的第二掺杂类型层;在器件边...
柏松黄润华汪玲杨同同
文献传递
一种碳化硅开关器件及制作方法
本发明公开了一种碳化硅开关器件及制作方法,降低沟道电阻在器件导通电阻中所占比例。本发明通过两次外延生长完成器件顶部结构加工,二次外延沟道区掺杂浓度低于侧向注入Pwell区的掺杂浓度,二次外延N+区掺杂浓度远高于侧向注入P...
黄润华柏松陶永洪汪玲刘奥李士颜刘昊
文献传递
共12页<12345678910>
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