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鲁进军
作品数:
3
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H指数:2
供职机构:
北京有色金属研究总院
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发文基金:
国家科技重大专项
国家高技术研究发展计划
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相关领域:
电子电信
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合作作者
周旗钢
北京有色金属研究总院
林霖
北京有色金属研究总院
闫志瑞
北京有色金属研究总院
王继
北京有色金属研究总院
李耀东
北京有色金属研究总院
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周旗钢
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:硅单晶 硅片 300MM硅片 单晶硅 直拉硅单晶
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所获资助
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林霖
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:超大规模集成电路 300MM硅片 硅片 化学机械抛光
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刘大力
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:SI 拉速 外延片 SP1 沉积厚度
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刘斌
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:氧沉淀 微缺陷 多晶硅 硅片 CZ硅单晶
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王继
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:超大规模集成电路 300MM硅片 硅片 化学机械抛光 表面形貌
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李俊峰
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:硅片 HF RCA清洗 硅片清洗 声波
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常麟
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:直拉硅单晶 氧浓度 数值模拟 有限元分析 SI
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李耀东
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:硅片 化学机械抛光 超大规模集成电路 300MM硅片 表面形貌
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卢立延
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:硅片 硅抛光片 氧浓度 数值模拟 直拉硅单晶
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闫志瑞
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:硅片 硅片清洗 300MM硅片 硅片表面 清洗工艺
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