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鲁进军

作品数:3 被引量:27H指数:2
供职机构:北京有色金属研究总院更多>>
发文基金:国家科技重大专项国家高技术研究发展计划更多>>
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领域

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地区

  • 11个北京市
11 条 记 录,以下是 1-10
周旗钢
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:硅单晶 硅片 300MM硅片 单晶硅 直拉硅单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
林霖
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:超大规模集成电路 300MM硅片 硅片 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘大力
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:SI 拉速 外延片 SP1 沉积厚度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘斌
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:氧沉淀 微缺陷 多晶硅 硅片 CZ硅单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王继
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:超大规模集成电路 300MM硅片 硅片 化学机械抛光 表面形貌
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李俊峰
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:硅片 HF RCA清洗 硅片清洗 声波
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
常麟
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:直拉硅单晶 氧浓度 数值模拟 有限元分析 SI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李耀东
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:硅片 化学机械抛光 超大规模集成电路 300MM硅片 表面形貌
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
卢立延
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:硅片 硅抛光片 氧浓度 数值模拟 直拉硅单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
闫志瑞
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:硅片 硅片清洗 300MM硅片 硅片表面 清洗工艺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
共2页<12>
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