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史霄

作品数：9 被引量：13H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
相关领域：电子电信机械工程更多>>

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共 12 条 记 录，以下是 1-10
杨师
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 集成电路 SEMI 半导体制造设备 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨元元
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 氮化镓 半导体材料 碳化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李伟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 CMP设备 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭春华
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP设备 工业泵 化学机械平坦化 湿法腐蚀 湿法
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王铮
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP技术 氮化镓 化学机械抛光 晶片 抛光工艺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
熊朋
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP技术 氮化镓 化学机械抛光 晶片 抛光工艺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
费玖海
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 温度控制 CMP工艺 PG
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴光庆
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：工业设备 化学品 气液分离器 湿化学 CDS
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张继静
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：超声扫描 无损检测 化学机械抛光 超声 半导体设备
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王洪宇
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：机械手 传输系统 硅片 机械手设计 LTCC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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