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黄仁东

作品数：40 被引量：0H指数：0
供职机构：上海集成电路研发中心更多>>
相关领域：电子电信文化科学自动化与计算机技术更多>>

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领域

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地区

  • 11个上海市
共 11 条 记 录，以下是 1-10
曾绍海
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：淀积 刻蚀 衬底 侧墙 超大规模集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李铭
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：淀积 光刻 刻蚀 衬底 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
左青云
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：衬底 淀积 空气隙 介质层 存储器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
钟旻
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：存储器单元 相变 底电极 沟道 相变材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
胡正军
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：淀积 清洗方法 硅 干法刻蚀 二氧化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王全
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：硅衬底 硅纳米线 刻蚀 自顶向下 图形化
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
林宏
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：空气隙 填充金属 铜互连 硅片 金属互连线
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王毅博
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：物料输送系统 自动化 晶圆 存储设备 传动皮带
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
戴文俊
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：研磨 晶圆 研磨液 修整 化学机械研磨
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
姚嫦娲
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：刻蚀 刻蚀工艺 互连 空气隙 通孔
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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