禤铭东
- 作品数：1 被引量：1H指数：1
- 供职机构：中国科学院物理研究所更多>>
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- 一种简单高效的制备硅纳米孔阵结构的方法被引量：1
- 2013年
- 本文介绍了一种简单高效的制备硅纳米孔阵结构的方法.利用激光干涉光刻技术,结合干法和湿法刻蚀工艺,直接将光刻胶点阵刻蚀为硅纳米孔阵结构,省去了图形反转工艺中的金属蒸镀和光刻胶剥离等必要步骤,在2英寸的硅(001)衬底上制备了高度有序的二维纳米孔阵结构.利用干法刻蚀产生的氟碳有机聚合物作为湿法刻蚀的掩膜,以及在干法刻蚀时对样品进行轻微的过刻蚀,使SiO2点阵图形下形成一层很薄的硅台面,是本方法的两个关键工艺步骤.扫描电子显微镜图片结果表明制备的孔阵图形大小均匀,尺寸可控,孔阵周期为450nm,方孔大小为200—280nm.
- 戴隆贵禤铭东丁芃贾海强周均铭陈弘
- 关键词：激光干涉光刻纳米阵列刻蚀
