您的位置: 专家智库 > >

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 1篇射线衍射
  • 1篇砷化镓
  • 1篇晶格
  • 1篇晶格失配
  • 1篇缓冲层
  • 1篇光阴极
  • 1篇负电子亲和势
  • 1篇X射线衍射
  • 1篇X射线衍射研...
  • 1篇GAIN
  • 1篇GAINAS

机构

  • 2篇西北工业大学
  • 2篇北方夜视科技...

作者

  • 2篇焦岗成
  • 2篇徐晓兵
  • 2篇胡仓陆
  • 1篇刘正堂
  • 1篇彭岔霞
  • 1篇郭晖
  • 1篇石峰
  • 1篇冯驰
  • 1篇成伟
  • 1篇王书菲
  • 1篇周玉鉴

传媒

  • 1篇半导体技术
  • 1篇电子学报

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2012
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
电子倍增型GaAs光阴极实验研究
2013年
电子倍增型GaAs光阴极是利用雪崩倍增效应的一种新型光阴极组件,通过在常规GaAs光阴极中引入雪崩电子倍增层制备了GaAs光阴极/电子倍增器一体化组件,研究了该组件的热清洗温度、电子增益等性能.对组件热清洗工艺前后的I-V特性进行了对比测试,结果表明,该组件可以承受580℃的热清洗温度,并获得了12.6倍的电子增益;880nm处的探测灵敏度≥3.87mA/w;暗电流密度≤6.79×10-5mA/cm2.
胡仓陆郭晖焦岗成彭岔霞冯驰徐晓兵周玉鉴成伟王书菲
关键词:砷化镓光阴极负电子亲和势
用X射线衍射研究缓冲层对GaInAs材料的影响
2012年
用分子束外延方法制备了具有GaInAs组分渐变缓冲层和不具有GaInAs组分渐变缓冲层的Ga0.9In0.1As/GaAs结构的外延材料。利用高分辨率X射线衍射法(HRXRD)对制备的两种样品分别进行了测试分析。实验结果表明,GaInAs组分渐变缓冲层对外延生长在GaAs衬底上的Ga0.9In0.1As外延材料的晶体质量具有显著的改善作用,极大降低了由于外延层与衬底晶格不匹配所带来的影响。从X射线倒易空间衍射(RSM)二维图谱结果来看,具有GaInAs组分渐变缓冲层结构的样品,其Ga0.9In0.1As外延层与GaInAs组分渐变缓冲层接近完全弛豫,Ga0.9In0.1As外延层的应变降低,表面残留应力小于0.06%,同时,GaAs衬底与Ga0.9In0.1As外延层之间的偏移夹角明显变小。
焦岗成刘正堂石峰徐晓兵胡仓陆
关键词:X射线衍射晶格失配GAINAS
共1页<1>
聚类工具0