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文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇砷化镓
  • 1篇光度
  • 1篇光阴极
  • 1篇厚度
  • 1篇分光
  • 1篇分光光度计
  • 1篇负电子亲和势

机构

  • 1篇西北工业大学
  • 1篇西安应用光学...
  • 1篇北方夜视科技...

作者

  • 2篇胡仓陆
  • 2篇周玉鉴
  • 1篇焦岗成
  • 1篇彭岔霞
  • 1篇徐晓兵
  • 1篇郭晖
  • 1篇徐晓兵
  • 1篇冯驰
  • 1篇成伟
  • 1篇成伟
  • 1篇王书菲

传媒

  • 1篇电子学报
  • 1篇应用光学

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2010
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
电子倍增型GaAs光阴极实验研究
2013年
电子倍增型GaAs光阴极是利用雪崩倍增效应的一种新型光阴极组件,通过在常规GaAs光阴极中引入雪崩电子倍增层制备了GaAs光阴极/电子倍增器一体化组件,研究了该组件的热清洗温度、电子增益等性能.对组件热清洗工艺前后的I-V特性进行了对比测试,结果表明,该组件可以承受580℃的热清洗温度,并获得了12.6倍的电子增益;880nm处的探测灵敏度≥3.87mA/w;暗电流密度≤6.79×10-5mA/cm2.
胡仓陆郭晖焦岗成彭岔霞冯驰徐晓兵周玉鉴成伟王书菲
关键词:砷化镓光阴极负电子亲和势
一种无损测量多层半导体材料厚度的新方法
2010年
通过研究GaAs半导体材料厚度对量子效率的影响入手,提出一种利用分光光度计直接测量多层半导体厚度的新方法。根据光学干涉原理,将分光光度计测量出的反射率波谷值代入编写的JAVA程序进行计算,从而可直接得出多层半导体材料厚度,使用该方法得到的半导体层厚度误差<9%,满足测试精度要求。此方法可用于半导体外延片材料分析、工艺提高以及批量无损测量。
成伟胡仓陆周玉鉴徐晓兵
关键词:分光光度计砷化镓
共1页<1>
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