张斌 作品数:53 被引量:102 H指数:6 供职机构: 南京电子器件研究所 更多>> 发文基金: 国家高技术研究发展计划 更多>> 相关领域: 电子电信 电气工程 自动化与计算机技术 机械工程 更多>>
S波段35WGaN功率MMIC 被引量:4 2011年 报道了一款采用两级拓扑结构的2~4GHz宽带高功率单片微波功率放大器芯片。放大器采用了微带结构,并使用电抗匹配进行设计,重点在于宽带功率效率平坦化设计。经匹配优化后放大器在2~4GHz整个频带内脉冲输出功率大于35W,小信号增益达到22dB,在2.4GHz频点处峰值输出功率达到40W,对应的功率附加效率为35%。功率放大器芯片采用0.25μm GaN HEMT76.2mm圆片工艺制造,芯片尺寸为2.7mm×2.3mm。 余旭明 洪伟 张斌 陈堂胜 陈辰关键词:宽带 S波段 微波单片集成电路 6~18 GHz宽带GaN功率放大器MMIC 被引量:5 2011年 报道了一款采用三级拓扑结构的6~18 GHz宽带单片微波功率放大器芯片。放大器采用了微带结构,并使用电抗匹配进行设计,减小输出匹配电路的损耗和提高效率。经匹配优化后放大器在6~18 GHz整个频带内脉冲输出功率大于6 W,小信号增益达到25 dB,在14 GHz频点处峰值输出功率达到10 W,对应的功率附加效率为21%。放大器芯片采用南京电子器件研究所的0.25μm GaN HEMT 76.2 mm圆片工艺制造,尺寸为2.3 mm×1.1mm。 余旭明 张斌 陈堂胜 任春江关键词:宽带 GHZ 微波单片集成电路 7~18GHz单片宽带大功率放大器 被引量:6 2003年 张斌 李拂晓 蒋幼泉关键词:功率放大器 宽带大功率 电子系统 微波通信 2.1GHz CMOS低噪声放大器 2008年 采用上海华虹NEC0.35μm标准CMOS工艺进行RFCMOS窄带低噪声放大器的设计和制作。测试结果表明,在2.1GHz时,输入驻波比1.1,输出驻波比1.5,增益18dB,噪声系数2.7dB,P-1dB输出功率9dBm。 铁宏安 李拂晓 李向阳 冯晓辉 姚祥 魏倩 张斌 翁长羽关键词:射频 低噪声放大器 噪声系数 Ku波段宽带大功率多芯片合成设计 被引量:1 2011年 设计针对多个Ku波段宽带MMIC功率放大芯片进行大功率合成。对波导多路功率合成结构进行了分析,基于单个Ku波段6W功放单片,进行了16路的功率合成,研制出了工作在12~17GHz,带宽达到6GHz的固态功率放大器。通过测试发现该固态功率放大器的输出功率≥70W,功率增益≥15dB,工作电压48V,效率≥16%,并具有较好的抗失配能力,整个固态功放的尺寸≤280mm×170mm×55mm。4个这样的固态功放合成在12~17GHz内得到大于200W的功率输出。 王晔 成海峰 张斌关键词:固态 功率放大器 大功率 GaN HEMT的温度特性及其应用 被引量:3 2011年 对0.25μm双场板结构GaN HEMT器件的温度特性进行了研究。负载牵引测试结果显示,GaN HEMT增益的温度系数为-0.02 dB/℃、饱和输出功率系数为-0.004 dB/℃。大的增益温度系数结合GaN HEMT自热效应引起的高温升对实际应用特别是功率MMIC的设计带来了挑战。按常温设计的GaN功率MMIC在高温下输出功率出现了较大幅度的下降,并且连续波与脉冲下工作输出功率存在较大差异。针对GaN HEMT应用中的这些问题提出了解决措施,包括降低2DEG浓度来减小增益的温度系数,通过选择SiC衬底和衬底减薄以及版图设计改善器件散热,降低器件工作时的温升。 任春江 陈堂胜 余旭明 张斌关键词:高电子迁移率晶体管 场板 5.2~5.8GHz有源巴仑MMIC 被引量:2 2006年 采用0.5μm GaAs pHEMT工艺研制的5.2~5.8GHz有源单片式巴仑芯片,最终测试表明:工作带宽之内,芯片输入输出驻波均小于1.5,两输出端幅度之差最大为0.8dB(@5.8GHz),最小为0.08dB(@5.6GHz),相位之差为174.3°(@5.2GHz)到180.6°(@5.8GHz),与理想差分比较,带内误差小于6°,双端输出时具有明显的功率增益,约在1.7~4.95dB之间,P1dH输出功率为10.5dBm左右,二次谐波失真比HDz典型值为-30dBc。 王维波 张斌关键词:微波单片集成电路 改进的Triquint-Materka PHEMT模型 2006年 针对PHEM T器件的特点,在A nge lov模型和T riqu in t-M aterka模型的基础上给出了一种新的模型,新的模型在直流特性和S参数拟合结果上都有很好的表现。文章以南京电子器件研究所的400μm栅宽、0.5μm栅长的PHEM T器件为例,给出了直流及S参数的拟合结果。 李辉 洪伟 张斌 施江伟 铁宏安关键词:赝配高电子迁移率晶体管 S参数 Ka波段低相位噪声GaAs MHEMT单片压控振荡器 被引量:1 2009年 报道了一种低相位噪声VCOMMIC芯片,采用传统的源端反馈形成负阻来消除谐振回路中的寄生电阻,通过合理的输出匹配实现起振条件并抑制谐波,利用南京电子器件研究所0.15μmGaAsMHEMT工艺,研制的Ka波段GaAsMHEMT压控振荡器,典型振荡频率为39.34GHz,频率变化范围38.6~41.3GHz之间,调谐带宽2.7GHz,典型输出功率6.97dBm,频偏100kHz,相位噪声为-81.1dBc/Hz。 王维波 王志功 张斌 康耀辉 吴礼群 杨乃彬关键词:砷化镓 相位噪声 0.15μm GaN HEMT及其应用 被引量:5 2013年 报道了毫米波应用的0.15μm场板结构GaN HEMT。器件研制采用了76.2mm(3英寸)SiC衬底上外延生长的AlGaN/GaN异质结构材料,该材料由MOCVD技术生长并引入了掺Fe GaN缓冲层技术以提升器件击穿电压。器件栅脚和集成了场板的栅帽均由电子束光刻实现,并采用栅挖槽技术来控制器件夹断电压。研制的2×75μm栅宽GaN HEMT在24V工作电压、35GHz频率下的负载牵引测试结果显示其输出功率密度达到了4W/mm,对应的功率增益和功率附加效率分别为5dB和35%。采用该0.15μm GaN HEMT技术进行了Ka波段GaN功率MMIC的研制,所研制的功率MMIC在24V工作电压下脉冲工作时(100μs脉宽、10%占空比),29GHz频点处饱和功率达到了10.64W。 任春江 陶洪琪 余旭明 李忠辉 王泉慧 王雯 陈堂胜 张斌关键词:铝镓氮 氮化镓 高电子迁移率晶体管 场板