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李雯

作品数:9 被引量:8H指数:1
供职机构:清华大学信息科学技术学院微电子学研究所更多>>
相关领域:电子电信电气工程更多>>

文献类型

  • 5篇会议论文
  • 4篇期刊文章

领域

  • 6篇电子电信
  • 4篇电气工程

主题

  • 6篇电感
  • 6篇3-D
  • 5篇MEMS
  • 3篇电感设计
  • 3篇射频
  • 3篇通信
  • 3篇通信领域
  • 3篇光刻
  • 2篇光刻胶
  • 1篇优化设计
  • 1篇射频通信
  • 1篇紫外光刻
  • 1篇微电子
  • 1篇微电子机械
  • 1篇微电子机械系...
  • 1篇微机电系统
  • 1篇微机械
  • 1篇微机械器件
  • 1篇机电系统
  • 1篇光刻工艺

机构

  • 9篇清华大学

作者

  • 9篇刘理天
  • 9篇谭智敏
  • 9篇李雯
  • 5篇薛昕

传媒

  • 2篇仪器仪表学报
  • 2篇第七届"测量...
  • 1篇固体电子学研...
  • 1篇微纳电子技术
  • 1篇中国微米/纳...
  • 1篇首届信息的获...

年份

  • 1篇2004
  • 8篇2003
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
紫外线厚胶光刻技术研究及应用被引量:6
2003年
紫外线厚胶光刻技术已广泛应用于 3D微机械结构的制作。本文选用AZ4 6 2 0和SU 8两种光刻厚胶 ,采用德国卡尔·休斯公司的MA 6双面对准光刻机 ,对紫外线光刻工艺条件进行了对比研究 ,结果表明 ,负性光刻胶SU 8的光敏性好 ,胶结构图形的侧墙较陡直 ,能够实现较大的深宽比 ,为复杂结构的三维微机械器件的制作提供了保证。
李雯谭智敏薛昕刘理天
关键词:SU-8
紫外厚胶光刻技术在3-D MEMS电感中的应用
研究了紫外厚胶光刻技术在三维微机械电感中的应用。实验用负性光刻胶SU-8构造了三维微机械电感的胶结构模型,并对光刻胶的工艺条件进行了研究。结果表明,负性光刻胶SU-8的光敏性好,形成的胶结构侧墙较陡直,能够实现较大的深宽...
李雯谭智敏薛昕刘理天
关键词:3-DMEMS电感
文献传递
紫外厚胶光刻技术在3-D MEMS电感中的应用被引量:1
2003年
研究了紫外厚胶光刻技术在三维微机械电感中的应用。实验用负性光刻胶SU-8构造了三维微机械电感的胶结构模型,并对光刻胶的工艺条件进行了研究。结果表明,负性光刻胶SU-8的光敏性好,形成的胶结构侧墙较陡直,能够实现较大的深宽比,为结构复杂的三维微机械电感的制作提供了保证。
李雯谭智敏薛昕刘理天
关键词:3-DMEMS
用于射频通信领域的3-D MEMS电感设计被引量:1
2003年
研究了影响3-D MEMS电感的电感值和Q值的主要因素,提出了电感值和Q值的理论计算模型。并利用该理论模型,对不同尺寸结构的三维微机械电感进行了数值模拟。根据理论计算的结果,设计了应用于射频通讯领域的高Q值3-DMEMS电感,并研究了电感制造的工艺流程。
李雯谭智敏刘理天
关键词:3-DMEMS
三维微机械电感的优化设计
2004年
研究了影响三维微机械电感电感值和Q值的主要因素 ,提出了电感值和Q值的理论计算模型。并利用该模型 ,对不同尺寸结构的三维微机械电感进行了数值模拟。根据理论计算的结果 ,得到了电感的优化结构 ,在 2 .5GHz的工作频率下 ,其电感值为 11nH ,Q值为 9。
李雯谭智敏刘理天
关键词:微电子机械系统电感优化设计
用于射频通信领域的3-D MEMS电感设计
研究了影响3-D MEMS电感的电感值和Q值的主要因素,提出了电感值和Q值的理论计算模型。并利用该理论模型,对不同尺寸结构的三维微机械电感进行了数值模拟。根据理论计算的结果,设计了应用于射频通讯领域的高Q值3-DMEMS...
李雯谭智敏刘理天
关键词:射频3-DMEMS电感
文献传递
紫外厚胶光刻技术在3-D MEMS电感中的应用
研究了紫外厚胶光刻技术在三维微机械电感中的应用.实验用负性光刻胶SU-8构造了三维微机械电感的胶结构模型,并对光刻胶的工艺条件进行了研究.结果表明,负性光刻胶SU-8的光敏性好,形成的胶结构侧墙较陡直,能够实现较大的深宽...
李雯谭智敏薛昕刘理天
关键词:电感光刻胶
文献传递
用于射频通信领域的3-D MEMS电感设计
研究了影响3-D MEMS电感的电感值和Q值的主要因素,提出了电感值和Q值的理论计算模型.并利用该理论模型,对不同尺寸结构的三维微机械电感进行了数值模拟.根据理论计算的结果,设计了应用于射频通讯领域的高Q值3-D MEM...
李雯谭智敏刘理天
关键词:射频通信电感设计光刻工艺
文献传递
紫外线厚胶光刻技术研究及应用
紫外线厚胶光刻技术已广泛应用于3D微机械结构的制作.本文选用AZ4620和SU-8两种光刻厚胶,采用德国卡尔*休斯公司的MA-6双面对准光刻机,对紫外线光刻工艺条件进行了对比研究,结果表明,负性光刻胶SU-8的光敏性好,...
李雯谭智敏薛昕刘理天
关键词:紫外光刻微机电系统厚胶光刻光刻胶微机械器件光敏性
文献传递
共1页<1>
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