您的位置: 专家智库 > >

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 4篇电子电信

主题

  • 1篇电气
  • 1篇电气故障
  • 1篇以太
  • 1篇以太网
  • 1篇以太网控制
  • 1篇运动控制
  • 1篇砂轮
  • 1篇湿化学
  • 1篇抛光
  • 1篇抛光垫
  • 1篇平坦化
  • 1篇切片
  • 1篇切片机
  • 1篇自动化
  • 1篇自动化技术
  • 1篇晶圆
  • 1篇可编程控制
  • 1篇可编程控制器
  • 1篇控制器
  • 1篇划片

机构

  • 4篇中国电子科技...
  • 1篇甘肃林业职业...

作者

  • 4篇张玮琪
  • 2篇孙敏
  • 1篇张崇巍
  • 1篇李永红
  • 1篇王洪建
  • 1篇刘凯文
  • 1篇王洪建

传媒

  • 4篇电子工业专用...

年份

  • 1篇2020
  • 2篇2015
  • 1篇2004
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
切片机电气故障的检修与维护被引量:2
2004年
主要介绍了QP-301D切片机电气系统的硬件设计可编程控制器PLC与三菱液晶触摸屏(HMI)之间的通讯,用PLC高速输出脉冲对步进电机和交流伺服电机的控制。以及对机器出现故障后的检修方法、整机的维护进行了举例说明。
张玮琪
关键词:切片机电气故障可编程控制器
EtherCAT分布式运动控制系统在湿化学设备中的应用
2020年
为解决传统控制系统控制结构封闭,兼容性差以及缺乏网络通信功能等弊端,满足湿化学设备在行业应用中的自动化和智能化需求,将以太网控制自动化技术应用于设备控制架构,搭建应用平台,构建适用于湿化学设备的分布式运动控制系统。简化了网络拓扑配置,提高了系统运动控制的实时性,满足设备应用需求,提升设备在行业应用中的适应性和扩展性。
王洪建刘凯文李永红何川张玮琪
关键词:分布式运动控制
300mm晶圆的复合划片工艺方案简析
2015年
通过对比目前各种主流划片工艺的优缺点,分析了300 mm晶圆的材料结构特性和主要工艺挑战,提出了复合工艺解决方案;并详细分析了主要工艺路线的挑战,通过具体实验的分析,得到了复合工艺解决方案的结果以及新问题和解决思路。
孙敏张玮琪张崇巍
抛光垫修整系统的应用研究
2015年
抛光垫修整器系统是CMP设备的重要组成部分,它可以优化CMP的工艺结果,有效延长抛光垫的寿命;通过介绍抛光垫修整器装置的整体结构、机械结构、气动控制及建立数学模型,并利用Matlab软件进行仿真,得出全抛光垫均匀修整覆盖的模型,指出今后抛光垫修整器应具备更多功能,以满足抛光垫的修整需要。
张玮琪王洪建孙敏
关键词:化学机械平坦化抛光垫
共1页<1>
聚类工具0