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华海清科(北京)科技有限公司
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具有温控模块的化学机械抛光装置
一种具有温控模块的化学机械抛光装置,包括:抛光盘,用于使抛光垫与其一起旋转;承载头,其配置有保持环以接收晶圆并将晶圆加载于所述抛光垫;承载头驱动装置,包括电机、驱动轴、气动组件、外壳和控制单元;电机和气动组件配置于所述外...
申兵兵
孙张璞
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一种化学机械抛光头和抛光系统
本发明公开了一种化学机械抛光头和抛光系统,所述化学机械抛光头包括联轴盘、承载盘、弹性膜和保持环,所述承载盘通过连接膜与所述联轴盘固定,所述弹性膜通过固定压环安装于所述承载盘的底部,所述保持环设置于所述弹性膜的外周侧并位于...
孟松林
文献传递
晶圆减薄系统及方法、电子设备、存储介质
本申请实施例公开了一种晶圆减薄系统及方法、电子设备、存储介质,晶圆减薄方法包括:针对一批次待减薄晶圆中的第n片晶圆,根据磨削系数控制磨削模块对第n片晶圆进行磨削,并根据压力响应系数控制抛光模块对磨削后的晶圆进行一次抛光,...
路新春
赵德文
温世乾
吴英明
田芳馨
用于晶圆的金属薄膜厚度测量方法、装置、抛光设备和介质
本申请实施例提供了一种用于晶圆的金属薄膜厚度测量方法、装置、抛光设备和介质,其中方法包括:根据电涡流传感器采集的测量信号,确定晶圆上金属薄膜的基准厚度,其中,测量信号用于指示金属薄膜上不同位置的测量厚度;根据基准厚度包括...
路新春
吴英明
田芳馨
刘杰
一种基板传输装置和基板磨削装备
本发明公开了一种基板传输装置和基板磨削装备,所述基板传输装置包括安装座,所述安装座的上方设置有摆臂,其能够相对于安装座移动和/或转动;所述摆臂配置有装载机构,以装载待周转的基板;所述装载机构包括吸附组件和夹持组件,以适用...
韩晓铠
刘远航
马旭
具有差动螺纹结构的磨削设备
本发明公开了一种具有差动螺纹结构的磨削设备,包括工作台、吸盘转台、磨削工具、以及角度调节装置,其包括与吸盘转台连接的第一差动螺纹组件和第二差动螺纹组件,第一差动螺纹组件用于使吸盘转台绕第二定向转动,第二差动螺纹组件用于使...
付永旭
刘远航
赵德文
李长坤
路新春
晶圆清洗装置及晶圆清洗方法
本申请实施例提供了一种晶圆清洗装置及晶圆清洗方法,晶圆清洗装置包括基座、清洗组件、多个第一动力件和多个夹持组件;清洗组件和多个夹持组件均设置至基座,多个第一动力件分别设置至多个夹持组件和基座之间,多个夹持组件能够,且多个...
刘卫坤
刘远航
靳凯强
一种晶圆翻转装置
本实用新型公开了一种晶圆翻转装置,其包括:支撑组件,以支撑待翻转的晶圆;夹紧组件,其设置于所述支撑组件上方,以侧向夹紧待翻转的晶圆;翻转驱动组件,其连接于所述夹紧组件,以带动夹紧组件及其上的晶圆翻转;所述支撑组件包括多个...
张美美
刘效岩
徐俊成
一种晶圆清洗装置
本发明公开了一种晶圆清洗装置,其包括:夹持组件,其水平夹持并驱动晶圆旋转;刷洗组件,其设置于所述夹持组件的侧部;所述刷洗组件包括摆臂,所述摆臂能够摆动至夹持组件的上方,其上的清洗刷沿晶圆的半径方向摆动以刷洗晶圆;所述清洗...
王鹏
徐俊成
刘丰迪
张美美
晶圆清洗装置
本发明公开了晶圆清洗装置,其包括:壳体;支撑组件,其位于所述壳体中,用于可旋转地支撑沿竖直方向设置的待清洗的晶圆;清洗刷,其平行、间隔设置并绕其轴线滚动;护板,其设置于所述清洗刷的上侧,以阻挡清洗刷滚动产生的流体溅落至晶...
许振杰
王同庆
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