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姚达

作品数:2 被引量:4H指数:2
供职机构:电子工业部更多>>
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李婉莹
供职机构:电子工业部
研究主题:集成电路 VLSI/ULSI VLSI ULSI 成膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张沈军
供职机构:电子工业部
研究主题:集成电路 多层布线 离子注入 VLSI/ULSI VLSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
许仲德
供职机构:电子工业部
研究主题:抗辐射 CMOS电路 IC 集成电路 抗辐射加固
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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