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程红娟

作品数：55 被引量：52H指数：4
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
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资助

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传媒

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地区

  • 55个天津市
  • 2个黑龙江省
  • 2个北京市
  • 1个云南省
共 60 条 记 录，以下是 1-10
徐永宽
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：HVPE GAN 氮化镓 氢化物气相外延 DAST
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
史月增
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：PVT ALN 籽晶 单晶 X射线双晶衍射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张颖武
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：单晶 硒化镉 大尺寸 GASB 性能表征
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王健
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：导模法 CMP CDSE 非线性光学晶体 性能研究
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
练小正
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：单晶 氧化镓 坩埚 单晶生长 籽晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张嵩
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：HVPE GAN 氢化物气相外延 氮化镓 GAAS衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
齐海涛
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：籽晶 PVT ALN 碳化硅 单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张丽
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：ALN PVT 氮化铝 籽晶 生长速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨丹丹
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：氮化镓 氢化物气相外延 HVPE 载气 X射线双晶衍射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李晖
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 表面粗糙度 碳化硅 晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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