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张国玲

作品数：3 被引量：0H指数：0
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：化学工程更多>>

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领域

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王立发
供职机构：中国电子科技集团第十三研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 粗糙度 T/R组件 硬盘基板
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
唐文栋
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP 硬盘基板 化学机械抛光 粗糙度 浆料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田军
供职机构：河北工业大学
研究主题：硬盘基板 CMP 粗糙度 计算机 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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