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文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇机械工程

主题

  • 1篇运动仿真
  • 1篇兆声清洗
  • 1篇升降式
  • 1篇湿法
  • 1篇湿法腐蚀
  • 1篇湿化学
  • 1篇偏心
  • 1篇平坦化
  • 1篇气液分离
  • 1篇气液分离器
  • 1篇曲柄
  • 1篇人工智能
  • 1篇芯片
  • 1篇芯片制造
  • 1篇晶圆
  • 1篇化学机械平坦...
  • 1篇化学品
  • 1篇工业泵
  • 1篇工业设备
  • 1篇国产化

机构

  • 5篇中国电子科技...

作者

  • 5篇郭春华
  • 2篇吴光庆
  • 2篇史霄
  • 1篇祝福生
  • 1篇高岳
  • 1篇杨师
  • 1篇熊朋

传媒

  • 5篇电子工业专用...

年份

  • 1篇2025
  • 1篇2017
  • 1篇2016
  • 2篇2015
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
基于MATLAB的升降式抖动机构运动仿真
2015年
通过对晶圆清洗过程中常用抖动机构的分析,将其等效为偏心曲柄-滑块机构。建立数学模型,分别推导出曲柄的角位移、角速度、角加速度和滑块的位移、速度、加速度,并应用MATLAB软件进行仿真,得到了滑块的位移、速度及加速度曲线。
郭春华史霄吴光庆秦亚奇
关键词:晶圆
工业泵在湿法腐蚀清洗设备中的应用被引量:4
2016年
介绍了几种常用泵的原理及在湿法腐蚀清洗设备中的典型应用。
祝福生郭春华夏楠君
CMP设备兆声清洗原理及应用被引量:4
2015年
从空化作用和声波流作用两方面对兆声清洗的物理原理进行深入分析,研究了兆声频率及功率对空化强度、边界层厚度、声波流速等关键因素的影响,从而阐明兆声波清洗的特点及其适用场合。同时以AMAT公司的设备为例,介绍了兆声波清洗在CMP后清洗中的实际应用案例。
史霄郭春华杨师熊朋
关键词:化学机械平坦化
国产HPC与AI芯片制造装备技术现状与发展策略分析
2025年
回顾了国产高性能计算(HPC)与人工智能(AI)芯片制造装备的发展历程,总结了目前的技术现状与面临的挑战。分析了国内外高性能计算与人工智能芯片制造装备的发展趋势和技术特点,并提出了针对国产装备发展的具体策略与建议,以期推动我国在这一领域的自主创新能力和发展水平。
高岳郭春华米雪刘容嘉
关键词:人工智能国产化
化学品集中供液系统在湿化学工业设备中的应用被引量:1
2017年
介绍了化学品集中供液系统(CDS)的组成以及工作原理,并探讨了系统中几种关键结构件的功能,为远距离输送、精确配比等工况下的高效供液打下基础。
吴光庆郭春华
关键词:气液分离器
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