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徐丽华

作品数：41 被引量：0H指数：0
供职机构：国家纳米科学中心更多>>
相关领域：文化科学电子电信化学工程理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 41篇中文专利

领域

  • 2篇化学工程
  • 2篇电子电信
  • 2篇文化科学
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇轻工技术与工...
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 14篇刻蚀
  • 13篇纳米
  • 9篇光学
  • 8篇光刻
  • 8篇衬底
  • 6篇等离子体
  • 6篇偏振
  • 6篇光刻胶
  • 5篇消光
  • 5篇金属膜
  • 4篇旋涂
  • 4篇偏振片
  • 4篇陷光结构
  • 4篇消光系数
  • 4篇刻蚀工艺
  • 4篇光学常数
  • 4篇光学性
  • 4篇硅衬底
  • 4篇硅膜
  • 4篇硅片

机构

  • 41篇国家纳米科学...

作者

  • 41篇褚卫国
  • 41篇徐丽华
  • 30篇闫兰琴
  • 24篇宋志伟
  • 20篇董凤良
  • 14篇陈佩佩
  • 8篇田毅
  • 4篇苗霈
  • 4篇胡海峰
  • 3篇李志琴
  • 2篇张先锋
  • 2篇亓丽梅
  • 1篇赵珉

年份

  • 1篇2024
  • 6篇2022
  • 4篇2021
  • 6篇2020
  • 1篇2019
  • 2篇2018
  • 5篇2017
  • 5篇2016
  • 8篇2015
  • 3篇2014
共 41 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种氟化碳膜及其制备方法和用途
本发明提供了一种氟化碳膜(CF<Sub>x</Sub>)及其制备方法和用途，所述氟化碳膜(CF<Sub>x</Sub>)的制备方法为：将惰性衬底置于ICP刻蚀系统中，以分子式中含有氟原子和碳原子的气体为工作气体对衬底表面...
闫兰琴褚卫国徐丽华张先锋
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一种低温制备非晶硅膜材料的方法、得到的产品和用途
本发明涉及一种低温制备非晶硅膜材料的方法、得到的产品和用途。所述低温制备非晶硅膜材料的方法包括：采用高密度等离子体增强化学气相沉积设备制备非晶硅膜材料，气相沉积的温度≤100℃，所述高密度等离子体增强化学气相沉积设备的功...
宋志伟褚卫国徐丽华闫兰琴
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一种低频BOSCH深硅刻蚀方法
本发明提供了一种低频BOSCH深硅刻蚀方法，该方法将BOSCH工艺和低频LF工艺相结合，采用低频脉冲功率源作为刻蚀工艺的下电极功率输入。该方法包括：紫外光刻胶图形的制备；各向异性刻蚀；各向同性沉积；刻蚀与沉积步骤交替进行...
徐丽华褚卫国
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一种微偏振片阵列及其制作方法
本发明涉及一种微偏振片阵列的制作方法，所述方法为：在衬底上镀一层金属薄膜层；在金属薄膜层上镀一层SiN<Sub>x</Sub>薄膜作为硬掩模；在所述SiN<Sub>x</Sub>薄膜层上旋涂电子束正性光刻胶层并烘烤；通过...
董凤良徐丽华宋志伟褚卫国
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一种透明超疏水薄膜、其制备方法及用途
本发明涉及一种透明超疏水薄膜、其制备方法及用途。本发明的透明超疏水薄膜兼具超薄、超透明和极好的超疏水性，厚度在60‑150nm，透光率在90‑97％，与水的接触角大于167°。本发明采用将射频磁控溅射与退火相结合的方法在...
闫兰琴褚卫国徐丽华宋志伟
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一种硅表面制作密度可调的锥状陷光结构的方法及制得的黑硅
本发明涉及一种硅表面制作密度可调的锥状陷光结构的方法及制得的黑硅，所述方法包括：1)采用等离子体处理方法，对硅片进行表面处理，在硅片表面形成点状非连续SiO<Sub>x</Sub>掩膜，处理时间决定黑硅锥状结构的密度；2...
徐丽华褚卫国陈佩佩闫兰琴
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一种基于金属纳米光栅的微偏振片阵列的制作方法
本发明涉及一种基于金属纳米光栅的微偏振片阵列的制作方法。所述方法包括以下步骤：（1）在基底上镀一层金属薄膜层并干燥处理；（2）在所述金属薄膜层上旋涂电子束正性光刻胶层并干燥处理；（3）在所述光刻胶层上通过电子束直写曝光并...
董凤良徐丽华苗霈宋志伟闫兰琴褚卫国
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一种表面增强拉曼基底及其制备方法
本发明提供了一种表面增强拉曼基底的制备方法，所述方法包括以下步骤：在基片上制备银膜，得到镀银基片；将所述镀银基片进行等离子体干法刻蚀，得到多孔结构的表面增强拉曼基底。此方法可制备颗粒度大小可调的银多孔结构，无需任何掩膜，...
徐丽华褚卫国陈佩佩宋志伟田毅
一种结构型吸波材料及其制作方法
一种在硅衬底材料上制作的吸波材料及其制备方法，所述方法包括：在衬底上沉积一层金属膜；然后采用ICPECVD沉积含硅层；旋涂电子束光刻胶，曝光光刻胶，形成周期结构的光刻胶图形；再沉积一层金属膜并进行剥离，最终形成金属膜/含...
董凤良徐丽华宋志伟褚卫国
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一种表面增强拉曼基底及其制备方法
本发明提供了一种表面增强拉曼基底的制备方法，所述方法包括以下步骤：在基片上制备银膜，得到镀银基片；将所述镀银基片进行等离子体干法刻蚀，得到多孔结构的表面增强拉曼基底。此方法可制备颗粒度大小可调的银多孔结构，无需任何掩膜，...
徐丽华褚卫国陈佩佩宋志伟田毅
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