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侯蕾

作品数：4 被引量：5H指数：1
供职机构：中国科学院上海微系统与信息技术研究所更多>>
相关领域：机械工程电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇科技成果

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇抛光
  • 2篇氧化硅
  • 2篇抛光液
  • 2篇蓝宝
  • 2篇蓝宝石
  • 1篇电路
  • 1篇电子级
  • 1篇研磨剂
  • 1篇溶胶
  • 1篇抛光工艺
  • 1篇抛光速率
  • 1篇螯合剂
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米SIO
  • 1篇金属
  • 1篇蓝宝石衬底
  • 1篇划痕
  • 1篇集成电路
  • 1篇硅溶胶
  • 1篇二氧化硅

机构

  • 4篇中国科学院
  • 3篇上海新安纳电...

作者

  • 4篇侯蕾
  • 2篇宋志棠
  • 2篇刘卫丽
  • 1篇闫未霞
  • 1篇张泽芳
  • 1篇秦飞

传媒

  • 1篇润滑与密封

年份

  • 1篇2019
  • 1篇2016
  • 1篇2015
  • 1篇2013
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
纳米SiO_2抛光液的制备及在蓝宝石抛光中的应用被引量：5
2013年
制备一种纳米氧化硅抛光液,采用扫描电子显微镜、激光粒度仪、颗粒计数仪等对其物性参数进行表征;使用该抛光液对LED蓝宝石衬底进行机械化学抛光,采用轮廓仪、表面缺陷检测设备、原子力显微镜等对抛光后的蓝宝石衬底表面进行表征。结果表明,制备的纳米氧化硅抛光液对LED蓝宝石衬底具有优异的抛光性能,抛光后的表面无划伤、无腐蚀坑,且粗糙度小于0.2 nm。
张泽芳侯蕾闫未霞刘卫丽宋志棠
关键词：蓝宝石氧化硅抛光LED抛光液
一种化学机械抛光液
一种化学机械抛光液，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下原料组分及重量百分含量：无机研磨剂0.1~50wt%、氨羧型螯合剂0.01~5wt%、余量为pH调节剂和水。本发明化学机械抛光液的有益效果为：...
刘卫丽侯蕾
文献传递
一种硅溶胶基磁流变金属抛光液及其制备方法和用途
本发明涉及精密抛光技术领域，特别是涉及一种硅溶胶基磁流变金属抛光液及其制备方法和用途。本发明提供一种硅溶胶基磁流变金属抛光液，包括如下组分：硅溶胶、金属表面保护剂、分散剂、pH缓冲剂、磁性粒子保护剂、所述抛光液的pH值为...
霍军朝侯蕾刘卫丽宋志棠
文献传递
电子级二氧化硅纳米抛光新材料及工业化制备关键技术
宋志棠刘卫丽秦飞孔慧侯蕾李宏亮
该项目属新材料领域。集成电路与LED芯片材料的表面平整度要求极高，通常表面粗糙度需控制在1-3埃，电子级二氧化硅(SiO<,2>)磨料和抛光液是实现其原子级表面的关键材料，核心技术和关键制备工艺完全被国外大公司垄断。在国...
关键词：
关键词：集成电路抛光工艺
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