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陈坚邦

作品数:14 被引量:44H指数:4
供职机构:北京有色金属研究总院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信金属学及工艺经济管理更多>>

文献类型

  • 11篇期刊文章
  • 3篇会议论文

领域

  • 12篇电子电信
  • 1篇经济管理
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 9篇砷化镓
  • 4篇抛光
  • 4篇GAAS
  • 3篇半导体
  • 2篇单晶
  • 2篇扫描电镜
  • 2篇锑化镓
  • 2篇晶体
  • 1篇电镜
  • 1篇原子氧
  • 1篇散射
  • 1篇扫描隧道显微...
  • 1篇射电
  • 1篇射线
  • 1篇砷化镓材料
  • 1篇酸钠
  • 1篇损伤层
  • 1篇体缺陷
  • 1篇透射电镜
  • 1篇抛光工艺

机构

  • 14篇北京有色金属...
  • 1篇北京大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 14篇陈坚邦
  • 3篇王永鸿
  • 3篇钱嘉裕
  • 3篇王云春
  • 2篇郑安生
  • 1篇邓志杰
  • 1篇秦国刚
  • 1篇屠海令
  • 1篇王敬
  • 1篇董国全
  • 1篇韩庆彬
  • 1篇麦振洪
  • 1篇刘鸿飞
  • 1篇万群
  • 1篇张峰翊
  • 1篇葛培文
  • 1篇陈晶
  • 1篇马碧春
  • 1篇崔树范
  • 1篇王孙涛

传媒

  • 9篇稀有金属
  • 2篇中国有色金属...
  • 1篇物理学报
  • 1篇光散射学报

年份

  • 1篇2001
  • 3篇2000
  • 1篇1999
  • 2篇1998
  • 1篇1997
  • 2篇1996
  • 1篇1995
  • 2篇1993
  • 1篇1989
14 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
GaAs材料抛光机理的研究被引量:7
1997年
GaAs材料抛光机理的研究陈坚邦王云春董国荃(北京有色金属研究总院北京100088)关键词:原子氧GaAs抛光机理氧化物1引言GaAs材料硬度低、脆性大、缺陷多、易解理、加工困难,在抛光工艺中对单晶材料的缺陷及其完整性非常敏感。目前较多采用化学机械...
陈坚邦王云春董国荃
关键词:抛光砷化镓化合物半导体
GaAs抛光表面损伤的RBS研究被引量:6
1998年
本文以卢瑟福离子背散射技术(RBS)检测了半绝缘GaAs(100)化学机械抛光表面的微损伤状况,并以α台阶仪测量了抛光表面的粗糙度。研究了以胶体SiO2和NaOCl溶液的混合液对GaAs进行化学机械抛光方法中主要工艺条件对表面质量的影响。把RBS法同X射线双晶衍射法对表面损伤的测量结果进行了比较,二者对应得很好。通过逐层腐蚀与RBS相结合测定了抛光过程造成的损伤层的厚度,发现如果抛光条件不适宜,获得的晶片表面尽管目视光洁度很好,也还有一定厚度的损伤层。RBS法测得好的非掺半绝缘GaAs(100)(由LEC法生长)抛光表面散射粒子最低产额低达31%,这样的晶片用腐蚀法未发现有损伤层。
董国全万群陈坚邦
关键词:抛光砷化镓卢瑟福背散射
锑化镓材料表面氧化机理的研究
1996年
利用扫描透射电子显微镜、X射线衍射和X射线光电子能谱检测了锑化镓晶片表面氧化层的成分和结构,研究了锑化镓材料表面氧化物的形成过程。
陈坚邦王云春
关键词:锑化镓次氯酸钠原子氧
LEC < 111 > 磷化镓晶片缺陷的观察被引量:1
1999年
使用 S T E M、 S E M 观察了磷化镓晶片在切割、研磨等工艺过程中引入的损伤。切片损伤层深度约303 μm , 磨片损伤层深度小于20 μm 。还观察到一些磷化镓单晶锭局部表面布满麻坑, 认为这是单晶生长时, 磷挥发造成的。同时离晶体表面100 ~150 μm 范围内有镓凝聚物, 是磷挥发后造成镓过剩并聚集在一起形成的。
陈坚邦郑安生
关键词:扫描电镜磷化镓
砷化镓镓面抛光工艺的研究
杨波陈坚邦
关键词:砷化镓抛光衬底
锑化镓材料表面氧化的研究
1996年
锑化镓材料表面氧化的研究陈坚邦,王云春(北京有色金属研究总院100088)关键词:锑化镓,空气,水,表面氧化(一)前言锑化镓材料是制造2~4μm激光器、红外发光管及高速低噪声雪崩光电二极管的重要衬底材料。它的三、四元化合物外延生长有良好的晶格匹配,是...
陈坚邦王云春
关键词:锑化镓单晶
GaAs/SiO_2超晶格的制备和Raman光谱研究
2000年
我们采用射频磁控溅射方法在 p- Si衬底上成功地制备出四周期的非晶 Ga As/Si O2超晶格 ,并取得其高分辨率电镜像。以 80 0℃快速退火方法使超晶格中非晶的 Ga As层局部晶化 ,利用 Raman散射谱研究了其结构变化。
衡成林王孙涛秦国刚王敬王永鸿陈坚邦濮玉梅陈晶
关键词:超晶格砷化镓拉曼光谱
磷化镓材料市场前景被引量:3
2000年
综述世界GaP材料及LED的产销现状、市场前景。预测 2 0 0 0年普通可见光LED增长率为 1 0 % ,高亮度LED为 30 % ,GaP衬底材料增长率不低于 1 0 %。GaP单晶以LEC法Φ50~ 62mm为主 ,并朝着减少材料位错密度和降低成本方向努力。
陈坚邦钱嘉裕
关键词:LED
砷化镓及相关化合物半导体材料的研究进展和应用前景
随着信息技术的发展,化合物半导体材料在微电子和光电子学中发挥越来越重要的作用。以砷化镓(GaAs)为代表的Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料正沿着大直径、高质量、低成本方向迅速发展。本文着重叙述了GaAs 单晶工艺技术现状,讨论了...
屠海令郑安生张峰翊邓志杰王永鸿钱嘉裕韩庆彬陈坚邦
关键词:晶体生长砷化镓
文献传递
GaAs单晶滑移位错X射线形貌术研究被引量:2
1989年
应用X射线形貌技术研究了掺In和不掺In砷化镓单晶的滑移位错。观察到由于位错密度不同,其滑移位错的组态不同。对滑移位错和胞状网络进行了初步的理论解释。
麦振洪葛培文何杰崔树范贺楚光马碧春陈坚邦王永鸿
关键词:砷化镓单晶位错X射线
共2页<12>
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