曾红军
- 作品数：20 被引量：53H指数：4
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
- 发文基金：国家重点实验室开放基金“九五”国家科技攻关计划更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程理学一般工业技术更多>>
- 连续深浮雕微光学元件放大刻蚀方法的研究
- 曾红军
- 关键词：湿法刻蚀干法刻蚀微光学元件
- 一种制作微透镜列阵的方法
- 本发明公开了一种制作微透镜列阵的方法。该方法包含设计、制作二元掩模,将掩模经光学系统投影在光刻材料上,在曝光过程中移动掩模,刻蚀、复制等步骤。该方法克服了二元光学方法、激光直写技术、光刻热熔法等方法存在的缺陷和上述方法在...
- 陈波曾红军杜春雷郭履容潘丽邓启凌周礼书邱传凯
- 文献传递
- 连续微光学元件在光刻胶上的面形控制被引量：21
- 2000年
- 介绍了连续微光学元件在光刻胶上的面形控制方法。分析了光刻胶及显影液在制作二元和连续元件中所存在的差别 ;导出具有倒易关系的浮雕深度表达式和适用的范围 ,并以此指导面形的控制 ,对光刻胶进行适当的改造以适应连续微光学元件的制作。本文还给出了实验验证 ,制作出了多种质量优良的连续微光学元件 ,并对典型元件的面形进行了评价。
- 曾红军杜春雷王永茹白临波邓启凌陈波郭履容袁景和
- 关键词：面形控制集成电路
- RIE精确传递微光学三维结构于红外材料的方法被引量：1
- 1999年
- 本文对红外光学材料锗的蚀刻性能、机制进行了深入的研究，在反应离子蚀刻（ＲＩＥ）实验基础上，建立了锗材料蚀刻性能与ＲＩＥ工艺参量的关系，经过大量的实验，找到了稳定蚀刻速率的方法和条件。
- 邱传凯杜春雷潘丽曾红军王永茹
- 关键词：反应离子蚀刻红外材料
- 折衍混合系统实现长焦深方法研究被引量：4
- 2001年
- 通过对传统能量守恒法设计长焦深元件进行介绍与分析 ,根据衍射元件设计灵活的特性 ,提出了改进的能量守恒法设计方法 ,利用折衍混合系统实现长焦深元件 ,并建立了优化的评价函数分两步对设计结果进行优化。
- 白临波李展陈波杜春雷曾红军郭履容
- 关键词：衍射元件
- 湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响被引量：1
- 1997年
- 湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响曾红军郭履容陈波庞霖（四川大学信息光学研究中心成都６１００６４）浮雕型全息光学元件（ＨＯＥ）在红外光学、自适应光学、光互联等领域有着广泛应用。全息记录材料曝光后，其潜像要经过显影等后处理（湿法刻蚀）才能获得浮雕。...
- 曾红军郭履容陈波庞霖
- 关键词：微光学元件表面性质湿法刻蚀作用位点微细加工信息光学
- 一种三维微结构的制作方法
- 本发明公开了一种三维微结构的制作方法，该方法利用计算机产生的掩模图形对感光材料进行重复曝光后，移动曝光台，对感光材料的不同区域在进行曝光；最后显影，形成任意连续三维微结构。本发明能够制作总体面积大的微结构元器件，避免了传...
- 曾红军陈波杜春雷郭履容
- 文献传递
- 一种制作微透镜列阵的方法
- 本发明公开了一种制作微透镜列阵的方法。该方法包含设计、制作二元掩模，将掩模经光学系统投影在光刻材料上，在曝光过程中移动掩模，刻蚀、复制等步骤。该方法克服了二元光学方法、激光直写技术、光刻热熔法等方法存在的缺陷和上述方法在...
- 陈波曾红军杜春雷郭履容潘丽邓启凌周礼书邱传凯
- 文献传递
- 酶蚀明胶法制作折射微透镜阵列被引量：4
- 2001年
- 提出一种利用蛋白酶溶液刻蚀重铬酸铵明胶制作微光学元件的新方法。这种方法具有制作工艺简单、无需昂贵设备等优点 ,用此方法实际制作了具有良好连续面形的微透镜阵列 ,并给出了测量结果。
- 姚军高福华高峰杜惊雷郭永康杜春雷曾红军丘传凯
- 关键词：微光学元件蛋白酶微透镜阵列
- 微米级正方角锥棱镜定向反光膜
- 正方角锥棱镜反光膜由定向反光层、微气室层、附着层、粘胶层和保护层紧贴构成。定向反光层的表面为微米级正方角锥棱镜阵列,每一个棱镜均由三个两两相互垂直的正方形平面构成,棱镜阵列结构为六角形紧密排列,棱镜深度为10—100微米...
- 陈波郭履容曾红军
- 文献传递
