滕林
- 作品数：19 被引量：46H指数：4
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- 相关领域：自动化与计算机技术一般工业技术电子电信理学更多>>
- 箔式锰铜传感器的新进展
- 2005年
- 箔式锰铜传感器主要应用于动高压的测试中,现有的箔式锰铜传感器采用有机物作为绝缘层,其测压上限为40GPa。而采用绝缘封装层为Al2O3薄膜的箔式传感器,可拓宽其测压上限。动高压测试结果表明,该传感器所承受的压力为55.32GPa,压阻系数为0.0272,传感器的延续时间可达2.5μm。
- 崔红玲杨邦朝杜晓松周鸿仁滕林
- 关键词：AL2O3薄膜
- 磁控溅射镱薄膜的制备及压阻特性被引量：4
- 2004年
- 使用直流磁控溅射的方法在聚酰亚胺上制备镱薄膜 ,XRD分析薄膜的晶体结构 ,SEM表征薄膜的形貌 ,利用一级轻气炮进行了 1 5GPa～ 2 5GPa的冲击加载压阻测试。研究结果表明 ,压阻系数依赖于薄膜的晶粒尺寸 ,经 30 0℃热处理 1h ,镱薄膜晶粒长大 ,薄膜结构更为致密 ,膜内缺陷减少 ,压阻系数有明显提高。
- 滕林杨邦朝杜晓松周鸿仁
- 关键词：直流磁控溅射冲击加载晶粒尺寸晶粒长大
- 中小科技型公司技术期权设计研究
- 2004年
- 技术期权可以解决中小科技型公司技术人员激励的问题 ,本文着重探讨了中小科技型公司技术股份期权的方案设计 ,对技术期权计划中激励基金、授予和考核、行权价格等参数进行了详细地分析设计 ,旨在减少技术期权激励过程中的随意性 。
- 滕林郭刘萍
- 锰铜薄膜的制备及压阻特性
- 2004年
- 为了锰铜传感器微型化,采用直流磁控溅射法制备适合高压力测量的锰铜薄膜,用X射线衍射和扫描电子显微镜技术分析了薄膜的结构和形貌,动态加载实验标定了锰铜薄膜的压阻系数。研究结果表明,晶粒尺寸决定了薄膜的压阻系数,经360℃热处理1h后,薄膜晶粒长大,压阻系数有着明显提高(K值达到0.02GPa–1),性能达到锰铜箔的水平。
- 杨邦朝滕林杜晓松周鸿仁
- 关键词：X射线衍射扫描电镜
- 金属薄膜附着性的改进被引量：18
- 2003年
- 根据薄膜附着机理,综述了影响金属薄膜附着性的因素。通过引入中间过渡层,减少应力来提高薄膜与衬底之间的结合强度,改善金属薄膜的性能。适当的热处理不仅能消除内应力,增强界面反应,而且对薄膜的性能有一定的影响。
- 滕林杨邦朝崔红玲杜晓松
- 关键词：金属薄膜附着性应力
- 介质薄膜的制备及其电性能的测试分析被引量：1
- 2004年
- 以Al_2O_3薄膜为例,介绍了用电子束蒸发制备介质薄膜的工艺。研究了不同退火条件下Al_2O_3薄膜的电性能,优化出最佳的热处理条件为400℃、氧气气氛中,热处理3 h。并对制得的Al_2O_3薄膜进行了SEM表面和断面分析,结果表明制得的Al_2O_3薄膜较烧结的Al_2O_3基板致密。
- 崔红玲杨邦朝杜小松滕林周鸿仁
- 关键词：电子束蒸发电性能测试电阻率
- 低温共烧微波带通滤波器的设计被引量：6
- 2008年
- 为实现移动通信中滤波器的小型化、高品质化的要求,利用Ansoft HFSS软件,采用LTCC湿法工艺,设计和制作了中心频率为2.45 GHz,带宽为100 MHz的叠层带通滤波器。最终加工得到了满足蓝牙模块要求的滤波器样品,与仿真结果比较,二者一致性良好。
- 滕林丁晓鸿付贤民
- 关键词：电子技术LTCC微波带通滤波器
- 阵列式薄膜锰铜计的动态压阻响应研究
- 2004年
- 利用直流磁控溅射薄膜工艺制备阵列式薄膜锰铜压阻计,以氧化铝作为基片和绝缘封装材料。在结构上,4个具有相同阻值的薄膜锰铜计在同一氧化铝基片上呈对称分布。51 72GPa压力下的动态加载实验表明,4个计的压阻一致性好,无高压旁路效应,验证了薄膜锰铜压阻计动态测试的准确性和可靠性。
- 滕林杨邦朝杜晓松周鸿仁崔红玲
- 关键词：阵列式基片直流磁控溅射一致性动态加载
- 基于表面响应法的半导体器件热阻网络技术研究被引量：10
- 2007年
- 热阻网络是在扩展传统内热阻定义的基础上,将计算机模拟的全模型采用优化方法简化而得到的。该方法继承了全模型可预测在各种工作环境下的芯片结温的优点。在分析半导体器件内热阻的基础上,提出了一种新的独立于边界条件的热阻网络模型,并运用表面响应法,建立VCM(Valid Chip Model)的热阻网络模型。通过验证,该模型具有很高的精确度,适用于复杂的系统级热设计。
- 曾理丁晓鸿杨邦朝蒋明陈文媛谢诗文滕林
- 关键词：半导体器件
- 镱薄膜传感器压阻灵敏度的研究被引量：4
- 2004年
- 采用真空蒸发工艺制备镱薄膜传感器,在小于1GPa压力范围内对未经任何处理和300℃真空热处理1h两组镱薄膜传感器进行准静态加载标定,后者的压阻系数明显高于前者,并且大于箔式镱传感器的压阻系数,结合扫描电镜和电学性能测试分析,发现热处理有助于薄膜晶粒长大,降低薄膜电阻率,从而提高了镱薄膜传感器的压阻灵敏度。XRD测试分析结果表明,加压有促使薄膜晶粒长大的趋势。镱薄膜传感器制作工艺简单、性能稳定,在工业中具有广泛的用途。
- 滕林杨邦朝杜晓松周鸿仁崔红玲肖庆国
- 关键词：传感器准静态加载X射线衍射谱
