李会军
- 作品数：8 被引量：42H指数：4
- 供职机构：郑州大学物理工程学院更多>>
- 发文基金：河南省科技发展计划项目国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信金属学及工艺更多>>
- Mo_2C过渡层对金刚石-碳膜场发射均匀性的影响被引量：1
- 2002年
- 在经过不同特殊预处理的金属钼衬底上沉积了金刚石 -碳膜 ,分别用X射线衍射谱 (XRD)、拉曼光谱 (Raman)和扫描电子显微镜 (SEM)对样品进行了分析和测试 ,并研究了样品器件的场发射特性。结果发现在金属钼衬底和金刚石 -碳膜之间形成的Mo2 C过渡层与金刚石
- 王小平王丽军宋天福姚宁马会中梁二军王建恩程桂萍李广庭杨仕娥边超李会军张兵临
- 氮化碳薄膜场致电子发射特性研究
- 本文分别采用直流磁控溅射技术和微波等离子体增强化学气相沉积(MPCVD)技术在镀钛氧化铝陶瓷衬底上制备了氮化碳薄膜,并研究了样品的场致电子发射特性,发现氮化碳薄膜的场致发射特性与其沉积条件有密切的关系.采用直流磁控溅射方...
- 李会军
- 关键词：微波等离子体化学气相沉积氮化碳薄膜场致电子发射
- 文献传递
- CVD金刚石涂层附着性能研究
- 2003年
- 采用微波等离子体 CVD(MPCVD)法在 YG6 硬质合金基体表面沉积金刚石涂层 ,在金刚石的形核和生长阶段分别采用不同的沉积条件 ,研究了分步沉积工艺对金刚石涂层形核、质量及其附着性能的影响 .结果表明 :采用分步优化的沉积工艺 ,可明显改善金刚石涂层与刀具基体之间的附着性能 ,这主要是由于基体表面形核密度的提高 ,增大了涂层与基体之间的实际接触面积 .
- 杨仕娥边超马丙现李会军王小平姚宁张兵临
- 关键词：金刚石涂层附着力
- 类富勒烯纳米晶CN_x薄膜及其场致电子发射特性被引量：6
- 2004年
- 利用微波等离子体增强化学气相沉积技术制备出了CNx 薄膜 ,并利用x射线光电子能谱、x射线衍射、扫描电子显微镜和Raman光谱等测试手段对所制备的CNx 薄膜的微结构和成分进行了分析 .研究了其场致电子发射特性 .发现薄膜的结构和场发射特性与反应系中的甲烷、氮气及氢气的流量比有关 ,当甲烷、氢气及氮气流量比为 8 5 0 5 0sccm时 ,制备的薄膜具有弯曲层状的纳米石墨晶体结构 (类富勒烯结构 )和很好的场发射特性 .场发射阈值电场降低至 1 1V μm .当电场为 5 9V μm时 ,平均电流密度达 70 μA cm2 ,发射点密度大于 1× 10 4 cm- 2 .
- 张兰马会中李会军杨仕娥姚宁胡欢陵张兵临
- 关键词：碳氮薄膜薄膜生长场致电子发射扫描电子显微镜RAMAN光谱
- CVD金刚石膜生长过程的Raman分析被引量：13
- 2002年
- 采用激光Raman散射分析法对CVD金刚石膜的生长过程进行研究 ,讨论在金刚石膜生长的不同阶段 。
- 杨仕娥李会军边超王小平马丙现姚宁张兵临
- 关键词：CVD金刚石膜RAMAN散射非晶碳化学气相沉积
- 氮气流量对氮化碳薄膜场致发射特性的影响被引量：1
- 2002年
- 采用直流磁控溅射的方法 ,以镀 Ti瓷片为衬底 ,改变 N2 和 Ar的流量比 ,在衬底温度为 40 0℃条件下制备了氮化碳薄膜 ,并对其场致发射特性进行研究 ,样品的开启电压为 2 .67V/μm,最大电流密度为 1 7.3 1 μA/cm2 ,比在同一系统制备的碳膜和用阴极电弧技术制备的氮化碳薄膜有更好的场发射特性 .结果表明 :溅射气体中氮气含量对氮化碳薄膜的场发射特性有较大的影响 .
- 李会军姚宁杨仕娥边超马丙现王小平张兵临
- 关键词：氮化碳薄膜
- 金刚石涂层刀具的研究进展被引量：13
- 2001年
- 针对CVD金刚石在刀具上主要应用类型，着重介绍了金刚石涂层刀具的研究进展与 现状。论述了基体材料的选择，以及分析了硬质合金金刚石涂层刀具的技术特点，并指出了 进一步深入研究的方向。
- 杨仕娥马丙现李会军王小平姚宁张兵临
- 关键词：金刚石涂层CVD硬质合金刀具表面处理化学气相沉积
- Mo离子注入对金刚石涂层附着性能的影响被引量：8
- 2002年
- 采用Mo离子注入工艺对YG6硬质合金基体表面进行处理 ,用微波等离子体CVD(MPCVD)法沉积金刚石涂层 ,研究了Mo离子注入工艺对金刚石涂层附着性能的影响 .结果表明 ,Mo离子注入后 ,硬质合金基体表面的化学成分发生了明显变化 ;采用适当剂量的Mo离子注入基体 ,可使CVD金刚石涂层的附着性能显著提高 .
- 杨仕娥姚宁王小平李会军马丙现秦广雍张兵临
- 关键词：金刚石涂层MO离子注入硬质合金基体钼表面处理
