马丙现
- 作品数：36 被引量：141H指数：8
- 供职机构：郑州大学物理工程学院更多>>
- 发文基金：河南省自然科学基金河南省科技攻关计划河南省教委自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信金属学及工艺一般工业技术更多>>
- 采用钛-铝-钼过渡层在铜基底上沉积金刚石薄膜的研究被引量：8
- 2005年
- 采用钛-铝-钼过渡层研究了铜基片上金刚石薄膜的化学气相沉积。用SEM和Raman谱研究了薄膜的形貌和质量。用XRD分析了膜基间形成的化合物的成分,并进一步分析了铝的存在对膜基结合力的影响。实验证明,钛-铝-钼过渡层的存在显著提高了金刚石薄膜与铜基底的结合力。
- 程春晓姚宁马丙现杨仕娥赵永梅张兵临
- 关键词：金刚石薄膜过渡层基底钼钛RAMAN谱
- Ge(313)表面能带结构分析被引量：1
- 2000年
- 使用紧束缚最近邻近似下的 sp3s* 模型 ,利用形式散射理论的格林函数方法 ,首次分析了半导体 Ge的(313)高指数表面的表面能带结构 .采用层轨道表象及表面投影技术 ,给出了 (313)表面在二维布里渊区高对称点的波矢分辩的电子态密度和表面投影能带结构 .分析结果表明 :(313)表面在 - 12 e V到 1e V的能区内存在 6个主要的表面态 .在此基础上讨论了各表面态的轨道特性。
- 魏英耐马润香陈秀芳贾瑜姚乾凯马丙现李新建
- 关键词：表面态态密度半导体
- CVD金刚石膜生长过程的Raman分析被引量：13
- 2002年
- 采用激光Raman散射分析法对CVD金刚石膜的生长过程进行研究 ,讨论在金刚石膜生长的不同阶段 。
- 杨仕娥李会军边超王小平马丙现姚宁张兵临
- 关键词：CVD金刚石膜RAMAN散射非晶碳化学气相沉积
- 金刚石薄膜的结构特征对薄膜附着性能的影响被引量：13
- 2005年
- 在不同实验条件下,用微波等离子体化学气相沉积设备在硬质合金(WC+6%Co)衬底上沉积了具有不同结构特征的金刚石薄膜.用Raman谱表征薄膜的品质和应力,用压痕实验表征薄膜的附着性能,考察了薄膜中sp2杂化碳含量、形核密度、薄膜厚度对薄膜附着性能的影响.结果表明sp2杂化碳的缓冲作用使薄膜中sp2杂化碳的含量对薄膜中残余应力有较大的影响,从而使薄膜压痕开裂直径统计性地随sp2杂化碳含量的增加而减小;仅仅依靠超声遗留的金刚石晶籽提高形核密度并不能有效改变薄膜与硬质合金基体之间的化学结合状况,从而不能有效提高薄膜在衬底上的附着性能;在薄膜较薄时,晶粒之间没有压应力的存在,开裂直径并不明显随厚度增加而增加,只有当薄膜厚度增加到一定值,晶粒之间才有较强压应力存在,开裂直径随厚度的增加而较为迅速地增加.
- 马丙现姚宁贾瑜杨仕娥鲁占灵樊志琴张兵临
- 关键词：金刚石薄膜结构特征
- 金刚石涂层刀具的研究进展被引量：13
- 2001年
- 针对CVD金刚石在刀具上主要应用类型，着重介绍了金刚石涂层刀具的研究进展与 现状。论述了基体材料的选择，以及分析了硬质合金金刚石涂层刀具的技术特点，并指出了 进一步深入研究的方向。
- 杨仕娥马丙现李会军王小平姚宁张兵临
- 关键词：金刚石涂层CVD硬质合金刀具表面处理化学气相沉积
- 模板作用与金刚石的选择性生长
- 2004年
- 用生命科学中的DNA(或RNA)模板和碱基(或氨基酸)模块的概念,从物理学角度说明模板对大尺度有序结构特别是亚稳相的生长,对自由能相差很小的异构体的选择生长所具有的重要作用.金刚石和石墨表面具有模板的特征,它们将主导自身外延层的生长方式.异质衬底的某些局域微观结构可以作为新相生长成核的局域模板;不同材料、不同的处理方法及不同的化学环境下的衬底具有不同的局域微观结构,从而决定了多晶薄膜的取向优势.
- 马丙现张兵临姚宁杨仕娥
- 关键词：金刚石金刚石薄膜DNA模板异构体
- 不锈钢衬底碳纳米管薄膜的场发射特性被引量：9
- 2004年
- 不需要添加任何催化剂,直接在含有少量Ni和Cr成分的不锈钢衬底上,用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法沉积碳纳米管薄膜.在SEM下观察,生成的碳纳米管取向无序,但浓度大、杂质含量少、直径小且分布均匀,其直径在50-60nm,为多壁碳纳米管.Raman光谱实验证实了此碳纳米管中存在大量缺陷.场发射实验表明,本样品的开启电压低,电子发射均匀,发射电流大.当用ITO玻璃作阳极且场强为11 V/μm时,电流密度可达到31 mA/cm2;当用荧光粉包覆的ITO玻璃作阳极且场强为6 V/μm时,电流密度可达到1.25 mA/cm2,这时的电子可稳定发射,使该样品变成良好的电子发射体.
- 樊志琴姚宁杨仕娥鲁占灵马丙现张兵临
- 关键词：碳纳米管薄膜场发射RAMAN光谱
- Sb吸附在GaAs(110)(1×1)-Sb(1ML)表面上的电子态特性被引量：1
- 1999年
- 采用紧束缚的ｓｐ３ｓ模型描述体电子态，用散射理论的格林函数方法研究了Ｓｂ吸附在ＧａＡｓ（１１０）表面上的电子特性．计算结果表明：在－１２ｅＶ—＋２ｅＶ的能区内有９个表面态存在，对于这样的金属／半导体系统仍有带隙存在，其带隙宽度为０．４ｅＶ左右；体系的性质表现为半导体的性质。
- 贾瑜马丙现顾华伟魏英耐范希庆
- 关键词：锑砷化镓半导体
- 沉积工艺参数对碳纳米管薄膜场发射性能的影响被引量：10
- 2006年
- 利用微波等离子体化学气相沉积（MWPCVD）方法，在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜。通过SEM、拉曼光谱和XRD表征，讨论了制备温度和甲烷浓度对碳纳米管膜场发射的影响。结果表明：不同条件下制备的碳纳米管膜的场发射性能有很大差异，保持氢气的流量（100sccm）、生长时间（10min）、反应室压力不变，当甲烷流量为8sccm、温度为700—800℃时，场发射性能最好，开启场强仅为0．8V／μm，发射点分布密集、均匀。
- 樊志琴闫书霞姚宁鲁占灵杨仕娥马丙现张兵临
- 关键词：碳纳米管微波等离子体化学气相沉积场发射拉曼光谱
- CVD金刚石涂层附着性能研究
- 2003年
- 采用微波等离子体 CVD(MPCVD)法在 YG6 硬质合金基体表面沉积金刚石涂层 ,在金刚石的形核和生长阶段分别采用不同的沉积条件 ,研究了分步沉积工艺对金刚石涂层形核、质量及其附着性能的影响 .结果表明 :采用分步优化的沉积工艺 ,可明显改善金刚石涂层与刀具基体之间的附着性能 ,这主要是由于基体表面形核密度的提高 ,增大了涂层与基体之间的实际接触面积 .
- 杨仕娥边超马丙现李会军王小平姚宁张兵临
- 关键词：金刚石涂层附着力
