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王宇

作品数：6 被引量：2H指数：1
供职机构：中国科学院空间科学与应用研究中心更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学一般工业技术机械工程金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 1篇专利

领域

  • 2篇理学
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇等离子体
  • 2篇离子
  • 2篇离子束
  • 2篇离子源
  • 2篇光学
  • 2篇光学薄膜
  • 2篇改性
  • 1篇等离子
  • 1篇等离子体技术
  • 1篇等离子体源
  • 1篇医用
  • 1篇医用材料
  • 1篇阴极发射
  • 1篇硬膜
  • 1篇碳化硼
  • 1篇力学性能
  • 1篇放电
  • 1篇放电效率
  • 1篇高速电子
  • 1篇TI

机构

  • 6篇中国科学院
  • 1篇天津市泌尿外...

作者

  • 6篇王宇
  • 3篇尤大纬
  • 3篇李晓谦
  • 2篇冯毓材
  • 1篇况园珠
  • 1篇林永昌
  • 1篇顾汉卿
  • 1篇张海文
  • 1篇尤大伟
  • 1篇李哓谦
  • 1篇郑保民
  • 1篇王怡德

传媒

  • 1篇电工电能新技...
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇微细加工技术
  • 1篇中国电工技术...

年份

  • 1篇2000
  • 2篇1999
  • 1篇1997
  • 1篇1996
  • 1篇1995
共 6 条 记 录，以下是 1-6
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排序方式：
用于制造光学薄膜的先进等离子体源
就研制先进等离子体源(GIS)的意义，设计及调试进行了论述。
尤大纬王宇李晓谦王怡德林永昌
关键词：光学薄膜等离子体源
光学薄膜制备用的多离子束电子束系统
1997年
本文介绍一种新型的光学薄膜制备用多离子束电子束系统。该系统既可采用聚焦离子束溅射沉积，也可采用传统的电子束蒸发沉积薄膜，并辅助以低能离子轰击，离子可以是惰性元素也可以是反应气体离子。系统的特征是：任何与真空相容的材料均可用作靶材，制备薄膜。系统采用一台１０ｃｍ直径宽束离子源作为辅助沉积；二台特殊设计的聚焦离子源用于溅射沉积。为了能对绝缘样品或在沉积绝缘薄膜时对离子束进行有效而无污染的中和，系统还配置了一台新型的宽束电子源。文中对装置的特点，各个离子源、电子源的性能及特性进行了较详细的描述。利用该系统已制备了如ＴｉＯｘ、ＺｒＯｘ和多层ＺｒＯ２／ＳｉＯ２等特殊的光学薄膜。
冯毓材李哓谦尢大纬况元珠王宇
关键词：光学薄膜
用于大面积辅助镀膜的无栅离子源
本实用新型涉及等离子体技术中的一种镀膜、装置,它主要包含有放电室、阳极、阴极发射体、阴极磁极靴、磁屏、阳极磁极靴。本实用新型利用电磁线圈及极片构成异形磁场,改变临界磁力线的形状,增加高速电子区的体积,减小其表面积从而提高...
尤大伟李晓谦王宇
文献传递
用于材料改性的宽束离子源现状及其发展被引量：2
1996年
本文叙述了对材料表面改性的宽束离子源的要求，重点介绍了考夫曼型气体离子源及电子束蒸发强流金属离子源，也介绍了ＲＦ、ＥＣＲ离子源及ＭＥＶＶＡ源。
尤大纬冯毓材王宇
关键词：离子束材料改性离子源
多功能离子束医用材料表面改性装置
本文介绍了一个多功能离子束材料表面改性装置的结构、特点、性能参数及试验初步结果。
郑保民况园珠王宇李晓谦张海文顾汉卿赵景丽
关键词：离子束表面改性
离子束增强沉积制备碳化硼及C-B-Ti化合物薄膜的结构与力学性能的研究
1995年
利用离子束共混制备具有高硬度、高熔点及良好化学稳定性的C，B化合物（如：碳化硼、硼化钛等），对于采用离子束增强沉积技术进行材料表面改性有重要意义。利用对烧结碳化硼化合物靶进行溅射沉积，同时利用不同能量的Ar+进行轰击的方法，制备了碳化硼及碳、硼、钛混合薄膜，并对它们的结构与力学性能进行了研究。
王宇尤大纬夏磊
关键词：硬膜碳化硼
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共1页<1>
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