张易军
- 作品数：11 被引量：10H指数：2
- 供职机构：鲁东大学物理与电子工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金山东省高等学校科技计划项目山东省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电气工程一般工业技术更多>>
- 深紫外非晶透明导电膜及其制备方法
- 本发明涉及一种深紫外非晶透明导电膜及其制备方法，属于电子材料技术领域。该深紫外非晶透明导电膜在远紫外光学石英玻璃衬底上依次设有Ga<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>层、金属Al导电层和Ga<Sub>2</...
- 闫金良刘建军石亮张易军谢万峰
- 文献传递
- 基底及HMVF层厚度变化对NbSiN/NbSiNO/Si_3N_4涂层光学性能的影响被引量：1
- 2014年
- 采用多靶磁控溅射镀膜机,以在Si靶上加Nb片的方法分别在Cu和单面抛光不锈钢(SS)基底上制备NbSiN/NbSiNO/Si3N4和Mo/NbSiN/NbSiNO/Si3N4多层膜。用α-step台阶仪(DEKTAK IIA)测量膜层厚度,UVPC3100分光光度计和傅里叶红外光谱仪(EXCALIBUR FTS 3000)对样品的光学性质进行表征。实验表明:在Cu基底上制备的涂层吸收率α=0.90,发射率ε=0.12;以SS为基底,红外反射层Mo的厚度约为230nm时,在λ>2.5μm范围内反射率最高,达到90%以上。高金属体积分数吸收层(HMVF)厚度约为80nm时吸收率α=0.95,发射率ε=0.33;真空下500℃和600℃各20h退火后吸收率、发射率变化不大。
- 谢万峰闫金良刘宇薛亚飞张易军张放放王聪
- 关键词：光学特性吸收率发射率磁控溅射
- 射频磁控溅射法制备N掺杂β-Ga_2O_3薄膜的光学特性(英文)被引量：3
- 2011年
- 在不同氨分压比（0~30%）下,用射频磁控溅射法在玻璃和硅衬底上制备了N掺杂β-Ga2O3薄膜.研究了氨分压比和退火对薄膜光学和结构特性的影响.N掺杂β-Ga2O3薄膜的微结构、光学透过率、光学吸收和光学带隙随着氨分压比的增加发生了显著变化.观察到了绿光、蓝光和紫外发光带,并对每个发光带进行了讨论.
- 闫金良张易军李清山曲崇张丽英李厅
- 关键词：射频磁控溅射透明导电氧化物光学带隙
- 双层结构深紫外透明导电膜及其制备方法
- 本发明涉及一种锡掺杂氧化铟(ITO)/氧化镓(Ga<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>)双层结构深紫外透明导电膜及其制备方法，属于电子材料技术领域。本发明以紫外光学石英玻璃为基板，用射频磁控溅射Ga<Sub...
- 闫金良李厅张易军赵银女
- 文献传递
- 深紫外非晶透明导电膜及其制备方法
- 本发明涉及一种深紫外非晶透明导电膜及其制备方法，属于电子材料技术领域。该深紫外非晶透明导电膜在远紫外光学石英玻璃衬底上依次设有Ga<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>层、金属Al导电层和Ga<Sub>2</...
- 闫金良刘建军石亮张易军谢万峰
- 文献传递
- Si掺杂β-Ga_2O_3的第一性原理计算与实验研究被引量：4
- 2011年
- 采用基于密度泛函理论(DFT)的第一性原理平面波超软赝势(USPP)法,在广义梯度近似(GGA)下计算了本征β-Ga2O3和Si掺杂β-Ga2O3的能带结构、电子态密度、差分电荷密度和光学特性.在蓝宝石衬底(0001)晶面上用脉冲激光沉积(PLD)法制备了本征β-Ga2O3和Si掺杂β-Ga2O3薄膜,测量了其吸收光谱和反射光谱.Si掺杂后β-Ga2O3的整个能带向低能端移动,呈现n型导电性,光学带隙增大,吸收带边蓝移,反射率降低.计算结果与相关实验结果完全符合.
- 张易军闫金良赵刚谢万峰
- 关键词：第一性原理密度泛函理论
- 双层结构深紫外透明导电膜及其制备方法
- 本发明涉及一种锡掺杂氧化铟(ITO)/氧化镓(Ga<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>)双层结构深紫外透明导电膜及其制备方法，属于电子材料技术领域。本发明以紫外光学石英玻璃为基板，用射频磁控溅射Ga<Sub...
- 闫金良李厅张易军赵银女
- 太阳能热发电选择性吸收涂层研究进展被引量：2
- 2010年
- 主要以金属陶瓷复合涂层为例,从涂层的类型、吸收机制和国内专利申请情况等角度分类总结了这方面的科研进展和最新成果,同时对寿命加速老化试验也作了简单探讨。
- 谢万锋闫金良刘宇薛亚飞张放放张易军
- 关键词：太阳能热发电吸收率发射率热稳定性
- 掺杂Ga2O3薄膜的理论与实验研究
- 随着半导体光电技术的日益发展,宽禁带透明导电氧化物薄膜已经成为半导体材料研究的热点之一。β-GaO作为一种直接带隙的宽禁带化合物半导体材料,被广泛应用于各种气敏传感器、紫外探测器、太阳能电池、平版印刷、表面改性、DNA检...
- 张易军
- 关键词：磁控溅射第一性原理电子结构
- 文献传递
- 室温沉积Cu夹层ZnO薄膜的光电性能
- 2010年
- 用磁控溅射技术在室温下制备了纳米Cu夹层ZnO薄膜,经X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计和四探针电阻测量仪等测试手段对薄膜的结构、光学性质和电学性质进行了测试.发现该薄膜随着Cu层厚度增加,ZnO层结晶性变差,可见光区域光学透光率减小,透射曲线蓝移,面电阻先迅速下降后缓慢下降.随着ZnO层厚度增加,薄膜c轴择优取向明显,压应力逐渐减小,光学透光率先增大后减小,面电阻随ZnO层厚度增加略有变化.
- 张易军闫金良
- 关键词：ZNO薄膜光学性能电学性能
