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周文利

作品数:23 被引量:55H指数:4
供职机构:华中理工大学电子科学与技术系更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划湖北省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术理学电气工程更多>>

文献类型

  • 22篇中文期刊文章

领域

  • 15篇电子电信
  • 5篇一般工业技术
  • 4篇电气工程
  • 3篇理学
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇生物学
  • 1篇化学工程

主题

  • 11篇铁电
  • 11篇铁电薄膜
  • 6篇晶体管
  • 5篇PZT
  • 4篇场效应
  • 4篇场效应晶体管
  • 3篇C-V特性
  • 2篇电场
  • 2篇双极型
  • 2篇双极型晶体管
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  • 2篇二极管
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  • 2篇ZR
  • 2篇AU
  • 2篇I-V特性
  • 2篇PB

机构

  • 22篇华中理工大学
  • 3篇中国科学院上...

作者

  • 22篇周文利
  • 20篇于军
  • 12篇谢基凡
  • 7篇王耘波
  • 7篇曹广军
  • 4篇王华
  • 4篇郑远开
  • 4篇刘刚
  • 3篇高俊雄
  • 2篇吴正元
  • 2篇朱丽丽
  • 1篇刘涛
  • 1篇徐静平
  • 1篇彭良强
  • 1篇魏龙
  • 1篇赵建洪
  • 1篇周东祥
  • 1篇饶友新
  • 1篇余志文

传媒

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  • 4篇Journa...
  • 1篇无机材料学报
  • 1篇功能材料
  • 1篇微电子技术
  • 1篇压电与声光
  • 1篇电子元件与材...

年份

  • 3篇2001
  • 6篇2000
  • 4篇1999
  • 2篇1997
  • 5篇1996
  • 2篇1995
23 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
SmSrMnO巨磁电阻材料晶格不稳定性研究被引量:2
1999年
对Sm 2/3Sr1/3 MnO3+ δ巨磁电阻材料样品在77 K 至室温范围进行了正电子寿命谱和多普勒展宽谱测量.结果显示,正电子平均寿命τm 随着温度的降低在200~150 K 温区出现与晶格结构不稳定有关的反常下降, 这一过程发生在磁有序起始温度之前;而伴随着绝缘体-金属型转变(115 K),多普勒展宽谱参数S明显增加,表明了电子的离域化.
王耘波于军周文利魏龙
关键词:巨磁电阻材料锰氧化物钙钛矿型
MF(I)S结构设计对硅基铁电薄膜系统C-V特性的影响被引量:5
1999年
为制备符合铁电场效应晶体管( F F E T) 及铁电存储二极管( F M D) 要求的高质量铁电薄膜,采用 P L D ( Pulsed Laser Deposition) 工艺, 制备了不同 M F ( I) S 结构的硅基铁电薄膜系统由 C- V特性的对比分析可见, 影响 C- V 特性的主要因素除了衬底类型、界面特性之外, 还有薄膜的结构设计在此基础上, 为改善铁电薄膜的 C- V
于军董晓敏赵建洪周文利谢基凡郑远开刘刚
关键词:铁电薄膜C-V特性PLD法二极管
电子镇流器的可靠性设计
1996年
讨论了电子镇流器可靠性设计的有关原理和方法,并从电路网络的固有可靠性设计、降额设计、电磁兼容设计与耐环境设计等方面论述了HUST-YZ40EB型电子镇流器可靠性设计与制造的技术方案.
于军谢基凡刘刚周文利
关键词:电子镇流器可靠性
Pb(Zr,Ti)O_3铁电场效应晶体管的制备及性能研究被引量:2
1997年
采用PLD(PulsedLaserDeposition)工艺制备Au/Pb(Zr,Ti)O3/SiO2/Si异质结构.这种结构的铁电场效应晶体管(FFET)的电性能由I-V和C-V特性表征.Au/Pb(Zr,Ti)O3/SiO2/Si异质结构的C-V曲线表现为极化开关,对应500nmPZT,记忆窗口约3V.实验表明Au/PZT/SiO2/Si栅结构实现了铁电体场效应存储性能.
于军周文利赵建洪谢基凡黄歆
关键词:铁电薄膜场效应晶体管FET
铁电薄膜和铁电场效应存储器研究被引量:1
1995年
简述了铁电场效应管FFET工作原理;说明了器件对薄膜和结构的要求;指出了铁电薄膜的电滞回线及金属铁电半导体结构的C-V特性。
周文利于军曹广军
关键词:铁电薄膜C-V特性存储器
MFS和MFOS结构的C-V特性研究被引量:1
1996年
采用SOL-GEL方法分别在Si和含有SiO2的衬底上制备出PZT铁电薄膜,并获得了MFS和MFOS结构.利用MOS结构常用的C-V特性分析方法,对MFS和MFOS结构进行了高频C-V特性测试分析,研究了F/(O)S的界面特性,结果表明,金属/PZT/SiO2/Si的MFOS结构具有较低的界面态,可实现极化存储,并可望制成铁电场效应晶体管.
于军周文利曹广军谢基凡
关键词:场效应晶体管C-V特性铁电薄膜
PZT/SiO_2/Si界面的XPS分析被引量:5
1996年
采用SOL-GEL工艺在SiO2/Si衬底上制备了铁电薄膜,对PZT/SiO2/Si结构进行了XPS分析,结果表明,在PZT铁电薄膜和硅衬底之间加SiO2使F/S界面得到了改善.
于军周文利曹广军谢基凡
关键词:PZT二氧化硅铁电薄膜XPS
双极型晶体管GP模型参数自动提取系统被引量:2
1999年
在叙述晶体管模型参数提取原理的基础上,着重介绍了自制晶体管GP模型参数自动提取系统的工作原理.该系统通过计算机控制实现数据自动采集、采用模型参数总体优化提取方法提取晶体管GP模型参数.运用该系统对MJE13005晶体管进行参数提取及PSPICE模拟。
高俊雄于军周文利郑远开
关键词:双极型晶体管
P(L)ZT铁电薄膜裂纹特性分析被引量:1
1995年
对铁电薄膜热处理过程中产生的裂纹的特性进行了分析。通过实验,研究了裂纹与铁电薄膜微细图形的尺寸、图形形状,以及衬底材料的关系,确定了铁电薄膜无裂纹设计规则及无裂纹工艺。
曹广军于军周文利吴正元
关键词:铁电薄膜退火PZT薄膜
低温制备Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3铁电薄膜及其性能研究被引量:3
2001年
采用脉冲激光沉积技术(PLD)在(100)p-Si衬底上,低温淀积、快速退火成功地制备了具有完全钙钛矿结构的多晶PZT铁电薄膜。所制备的PZT铁电薄膜致密、均匀,表现出良好的介电和铁电性能.其介电常数和介电损耗100kHZ下分别为320和0.08,剩余极化Pt和矫顽场Ec分别为14μC/cm2和58kV/cm.+5V电压下漏电流密度低于 10-7A/cm2。107次极化反转后剩余极化仅下降10%,具有较好的疲劳特性。
王华于军王耘波周文利谢基凡朱丽丽
关键词:PZT铁电薄膜PLD
共3页<123>
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