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周文利
作品数:
23
被引量:55
H指数:4
供职机构:
华中理工大学电子科学与技术系
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发文基金:
国家自然科学基金
国家高技术研究发展计划
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合作作者
于军
华中理工大学电子科学与技术系
谢基凡
华中理工大学电子科学与技术系
王耘波
华中理工大学电子科学与技术系
曹广军
华中理工大学固体电子学系
刘刚
华中理工大学电子科学与技术系
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2篇
1997
5篇
1996
2篇
1995
共
23
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SmSrMnO巨磁电阻材料晶格不稳定性研究
被引量:2
1999年
对Sm 2/3Sr1/3 MnO3+ δ巨磁电阻材料样品在77 K 至室温范围进行了正电子寿命谱和多普勒展宽谱测量.结果显示,正电子平均寿命τm 随着温度的降低在200~150 K 温区出现与晶格结构不稳定有关的反常下降, 这一过程发生在磁有序起始温度之前;而伴随着绝缘体-金属型转变(115 K),多普勒展宽谱参数S明显增加,表明了电子的离域化.
王耘波
于军
周文利
魏龙
关键词:
巨磁电阻材料
锰氧化物
钙钛矿型
MF(I)S结构设计对硅基铁电薄膜系统C-V特性的影响
被引量:5
1999年
为制备符合铁电场效应晶体管( F F E T) 及铁电存储二极管( F M D) 要求的高质量铁电薄膜,采用 P L D ( Pulsed Laser Deposition) 工艺, 制备了不同 M F ( I) S 结构的硅基铁电薄膜系统由 C- V特性的对比分析可见, 影响 C- V 特性的主要因素除了衬底类型、界面特性之外, 还有薄膜的结构设计在此基础上, 为改善铁电薄膜的 C- V
于军
董晓敏
赵建洪
周文利
谢基凡
郑远开
刘刚
关键词:
铁电薄膜
C-V特性
PLD法
二极管
电子镇流器的可靠性设计
1996年
讨论了电子镇流器可靠性设计的有关原理和方法,并从电路网络的固有可靠性设计、降额设计、电磁兼容设计与耐环境设计等方面论述了HUST-YZ40EB型电子镇流器可靠性设计与制造的技术方案.
于军
谢基凡
刘刚
周文利
关键词:
电子镇流器
可靠性
Pb(Zr,Ti)O_3铁电场效应晶体管的制备及性能研究
被引量:2
1997年
采用PLD(PulsedLaserDeposition)工艺制备Au/Pb(Zr,Ti)O3/SiO2/Si异质结构.这种结构的铁电场效应晶体管(FFET)的电性能由I-V和C-V特性表征.Au/Pb(Zr,Ti)O3/SiO2/Si异质结构的C-V曲线表现为极化开关,对应500nmPZT,记忆窗口约3V.实验表明Au/PZT/SiO2/Si栅结构实现了铁电体场效应存储性能.
于军
周文利
赵建洪
谢基凡
黄歆
关键词:
铁电薄膜
场效应晶体管
FET
铁电薄膜和铁电场效应存储器研究
被引量:1
1995年
简述了铁电场效应管FFET工作原理;说明了器件对薄膜和结构的要求;指出了铁电薄膜的电滞回线及金属铁电半导体结构的C-V特性。
周文利
于军
曹广军
关键词:
铁电薄膜
C-V特性
存储器
MFS和MFOS结构的C-V特性研究
被引量:1
1996年
采用SOL-GEL方法分别在Si和含有SiO2的衬底上制备出PZT铁电薄膜,并获得了MFS和MFOS结构.利用MOS结构常用的C-V特性分析方法,对MFS和MFOS结构进行了高频C-V特性测试分析,研究了F/(O)S的界面特性,结果表明,金属/PZT/SiO2/Si的MFOS结构具有较低的界面态,可实现极化存储,并可望制成铁电场效应晶体管.
于军
周文利
曹广军
谢基凡
关键词:
场效应晶体管
C-V特性
铁电薄膜
PZT/SiO_2/Si界面的XPS分析
被引量:5
1996年
采用SOL-GEL工艺在SiO2/Si衬底上制备了铁电薄膜,对PZT/SiO2/Si结构进行了XPS分析,结果表明,在PZT铁电薄膜和硅衬底之间加SiO2使F/S界面得到了改善.
于军
周文利
曹广军
谢基凡
关键词:
PZT
二氧化硅
铁电薄膜
XPS
双极型晶体管GP模型参数自动提取系统
被引量:2
1999年
在叙述晶体管模型参数提取原理的基础上,着重介绍了自制晶体管GP模型参数自动提取系统的工作原理.该系统通过计算机控制实现数据自动采集、采用模型参数总体优化提取方法提取晶体管GP模型参数.运用该系统对MJE13005晶体管进行参数提取及PSPICE模拟。
高俊雄
于军
周文利
郑远开
关键词:
双极型晶体管
P(L)ZT铁电薄膜裂纹特性分析
被引量:1
1995年
对铁电薄膜热处理过程中产生的裂纹的特性进行了分析。通过实验,研究了裂纹与铁电薄膜微细图形的尺寸、图形形状,以及衬底材料的关系,确定了铁电薄膜无裂纹设计规则及无裂纹工艺。
曹广军
于军
周文利
吴正元
关键词:
铁电薄膜
退火
PZT薄膜
低温制备Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3铁电薄膜及其性能研究
被引量:3
2001年
采用脉冲激光沉积技术(PLD)在(100)p-Si衬底上,低温淀积、快速退火成功地制备了具有完全钙钛矿结构的多晶PZT铁电薄膜。所制备的PZT铁电薄膜致密、均匀,表现出良好的介电和铁电性能.其介电常数和介电损耗100kHZ下分别为320和0.08,剩余极化Pt和矫顽场Ec分别为14μC/cm2和58kV/cm.+5V电压下漏电流密度低于 10-7A/cm2。107次极化反转后剩余极化仅下降10%,具有较好的疲劳特性。
王华
于军
王耘波
周文利
谢基凡
朱丽丽
关键词:
PZT
铁电薄膜
PLD
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