张若凡
- 作品数：11 被引量：1H指数：1
- 供职机构：清华大学更多>>
- 相关领域：电子电信一般工业技术自动化与计算机技术核科学技术更多>>
- 磁控溅射系统磁场相关研究概述
- 溅射是在目前的集成电路镀膜过程中应用最广泛的一种物理气相沉积技术。围绕磁控溅射系统开展研究的主要目标可概括为以下三个方面：提高镀膜均匀性、提高基片沉积速率、提高靶材利用率。其中，水平磁场可以约束其附近的二次电子运动，延长...
- 张若凡王人成程嘉陆益嘉
- 关键词：磁控溅射磁控管
- IC装备多领域建模工艺仿真设计平台电磁模块开发与应用
- IC装备的设计过程涉及多个环节，包括最初的几何建模，热流、电磁、等离子体等物理场的特性分析，以及最终的实验设计与优化等。这些环节之间存在一定的逻辑关系和参数间的传递，而在实际设计过程中，这些环节往往是被割裂的，比如物理场...
- 张若凡张可吴晓晶王人成程嘉陆益嘉
- 关键词：PECVD
- IC装备多领域建模工艺仿真设计平台电磁模块开发与应用
- IC装备的设计过程涉及多个环节,包括最初的几何建模,热流、电磁、等离子体等物理场的特性分析,以及最终的实验设计与优化等。这些环节之间存在一定的逻辑关系和参数间的传递,而在实际设计过程中,这些环节往往是被割裂的,比如物理场...
- 张若凡张可吴晓晶王人成程嘉陆益嘉
- 关键词：PECVD
- 文献传递
- 磁控溅射系统磁场相关研究概述
- 溅射是在目前的集成电路镀膜过程中应用最广泛的一种物理气相沉积技术。围绕磁控溅射系统开展研究的主要目标可概括为以下三个方面:提高镀膜均匀性、提高基片沉积速率、提高靶材利用率。其中,水平磁场可以约束其附近的二次电子运动,延长...
- 张若凡王人成程嘉陆益嘉
- 关键词：磁控溅射磁控管
- 文献传递
- 直流磁控溅射系统辅助磁极轴向磁场的仿真与优化
- 直流磁控溅射是一种工业常用的镀膜方法,为了提高其靶材利用,旋转磁控管被引入溅射系统。随着近些年集成电路的发展,基片上的高深宽比结构逐渐增多,而旋转直流磁控溅射系统对高深宽比结构的镀膜效果并不理想,存在沉积速率低、均匀性差...
- 张若凡王人成程嘉陆益嘉
- 关键词：直流磁控溅射轴向磁场
- 文献传递
- 直流磁控溅射系统辅助磁极轴向磁场的仿真与优化
- 直流磁控溅射是一种工业常用的镀膜方法，为了提高其靶材利用，旋转磁控管被引入溅射系统。随着近些年集成电路的发展，基片上的高深宽比结构逐渐增多，而旋转直流磁控溅射系统对高深宽比结构的镀膜效果并不理想，存在沉积速率低、均匀性差...
- 张若凡王人成程嘉陆益嘉
- 关键词：直流磁控溅射轴向磁场
- 旋转磁控管溅射系统辅助磁极设计方法的研究
- 磁控溅射被广泛应用于集成电路制造装备(IC装备)的铜互联工艺,随着大规模集成电路线宽从65nm向32nm和28nm发展,基片上结构深宽比成比例增加,导致沟槽填充能力、均匀性和沉积速率均出现下降。本文围绕提高溅射准直性问题...
- 张若凡
- 文献传递
- 磁控溅射源移动磁体最优运动规律的计算方法
- 本发明公开了磁控溅射源移动磁体运动控制技术领域中的一种磁控溅射源移动磁体最优运动规律的计算方法。包括通过仿真得到移动磁体运动经过n个位置处靶材表面上m个点的水平磁场强度；建立用于计算靶材表面m个点的等效水平磁场强度的耦合...
- 王人成张若凡程嘉于璐嘉柳世强何崇恺
- 文献传递
- 一种提高偏心旋转磁控溅射系统的准直性方法
- 本发明公开了属于电子机械领域的一种提高偏心旋转磁控溅射系统的准直性方法，该方法为：1）在具有小面积运动磁控管的SIP溅射腔室外部贴近壁面处添加辅助磁极，并设置辅助磁极的布置方式，确定相关结构参数，使辅助磁极在SIP溅射腔...
- 王人成张若凡程嘉阎绍泽季林红
- 文献传递
- 一种提高偏心旋转磁控溅射系统的准直性方法
- 本发明公开了属于电子机械领域的一种提高偏心旋转磁控溅射系统的准直性方法，该方法为：1）在具有小面积运动磁控管的SIP溅射腔室外部贴近壁面处添加辅助磁极，并设置辅助磁极的布置方式，确定相关结构参数，使辅助磁极在SIP溅射腔...
- 王人成张若凡程嘉阎绍泽季林红
- 文献传递
