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吕博嘉

作品数：4 被引量：3H指数：1
供职机构：大连理工大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：动力工程及工程热物理化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇动力工程及工...

主题

  • 4篇热丝
  • 4篇热丝化学气相...
  • 4篇化学气相
  • 4篇化学气相沉积
  • 2篇带隙
  • 2篇等离子体
  • 2篇等位面
  • 2篇阻挡放电
  • 2篇微波等离子体
  • 2篇微晶硅
  • 2篇微晶硅薄膜
  • 2篇纳米
  • 2篇纳米金刚石
  • 2篇介质
  • 2篇介质阻挡
  • 2篇介质阻挡放电
  • 2篇介质阻挡放电...
  • 2篇金刚石
  • 2篇光学
  • 2篇光学带隙

机构

  • 4篇大连理工大学
  • 1篇大连民族学院

作者

  • 4篇吕博嘉
  • 3篇刘爱民
  • 3篇刘东平
  • 3篇马腾才
  • 3篇刘艳红
  • 1篇刘韶华

传媒

  • 1篇真空

年份

  • 1篇2009
  • 2篇2008
  • 1篇2007
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
介质阻挡放电等离子体热丝化学气相沉积的方法与装置
本发明公开了一种以介质阻挡放电方式产生等离子体的等离子体热丝化学气相沉积的方法与装置。本发明的特征是利用金属网强制提供的零等位面作为介质阻挡放电的零电位电极，热丝位于金属网的另一侧，从而实现了等离子体区与热丝区的分离。处...
刘艳红刘东平马腾才刘爱民吕博嘉
文献传递
热丝化学气相沉积制备微晶硅薄膜的研究
本文以HWCVD法制备微晶硅薄膜为主要研究内容，利用X射线衍射谱、透射光谱、扫描电子显微镜、霍尔效应、伏安特性曲线和阻抗谱曲线对样品进行深入细致地分析，讨论工艺参数对微晶硅薄膜结构特性及电学特性的影响，包括：沉积气压对微...
吕博嘉
关键词：微晶硅薄膜HWCVD电学特性晶粒尺寸光学带隙
文献传递
热丝CVD制备微晶硅薄膜的研究被引量：2
2008年
采用热丝化学气相沉积技术制备微晶硅薄膜,利用X射线衍射谱、Raman散射谱、透射光谱和扫描电子显微镜等检测手段,系统地研究沉积过程中沉积气压对微晶硅薄膜晶粒尺寸、晶态比和光学带隙的影响,运用Tacu法则对薄膜的透射率和厚度进行计算分析,得到薄膜光学带隙与沉积气压之间的关系,结果表明薄膜的光学带隙随着沉积气压的升高而单调下降。
吕博嘉刘艳红刘东平刘爱民刘韶华马腾才
关键词：热丝化学气相沉积微晶硅薄膜光学带隙
介质阻挡放电等离子体热丝化学气相沉积的方法与装置
本发明公开了一种以介质阻挡放电方式产生等离子体的等离子体热丝化学气相沉积的方法与装置。本发明的特征是利用金属网强制提供的零等位面作为介质阻挡放电的零电位电极，热丝位于金属网的另一侧，从而实现了等离子体区与热丝区的分离。处...
刘艳红刘东平马腾才刘爱民吕博嘉
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