谭满清
- 作品数：107 被引量：134H指数：7
- 供职机构：中国科学院半导体研究所更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划国家自然科学基金国家电网公司科技项目更多>>
- 相关领域：电子电信理学自动化与计算机技术机械工程更多>>
- 157W准连续AlGaAs/GaAs激光二极管线列阵被引量：7
- 2000年
- 通过优化设计量子阱结构和列阵结构，减小腔面光功率密度，避免器件腔面灾变损伤，得到１ｃｍ ＡｌＧａＡｓ／ＧａＡｓ 激光二极管线列阵，在热沉温度２１℃，脉冲宽度２００μｓ，重复频率１００Ｈｚ时，输出峰值功率达１５７Ｗ．
- 方高瞻肖建伟马骁宇谭满清刘宗顺刘素平胡长虹鲁琳李秀芳王梅
- 关键词：激光二极管列阵砷化镓
- 磷化铟表面清洁方法
- 一种磷化铟表面的清洁方法，包括：1、将磷化铟材料器件置入真空室中，然后，用抽真空设备将真空室的本底真空度抽至10<Sup>-5</Sup>Pa数量级及以上；2、按3∶27∶20的比率将氢气、氮气、氩气混合后通入真空室；3...
- 谭满清茅冬生
- 文献传递
- ECR Plasma CVD淀积光电器件介质膜的工艺模拟
- 以实验数据为基础，运用人工神经网络方法，建立了电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR Plasma CVD)淀积硅的氮、氧化物介质膜的折射率、速率与气流配比Q(N<,2>)t /Q(SiH<,4>)和Q(O<,2>)/...
- 谭满清陆建祖李玉鉴
- 关键词：人工神经网络气相沉积介质膜
- 文献传递
- 用于光纤陀螺的掺铒超荧光光纤光源结构
- 一种用于光纤陀螺的掺铒超荧光光纤光源结构，包括：一激光器；一功率分配器的输入端与激光器的输出端连接，将激光器的输出光分成两部分；一第一波分复用器的a端与功率分配器的一个输出端连接；一第二波分复用器的a端与功率分配器的另一...
- 常金龙谭满清
- 文献传递
- 低发散角的超辐射发光二极管结构
- 一种低发散角的超辐射发光二极管结构，包括：一衬底；一缓冲层，其制作在衬底上；一无源波导芯层，其制作在缓冲层上；一空间层，其制作在无源波导芯层上；一应变量子阱结构，其制作在空间层上；一缓冲层，其制作在应变量子阱结构上；一电...
- 郭文涛谭满清熊迪赵亚利曹营春万丽丽刘珩
- 文献传递
- 基于超辐射发光二极管的参数生成方法
- 本发明公开了一种基于超辐射发光二极管的参数生成方法，包括：创建与超辐射发光二极管对应的固体传热模块；基于第一温度参数和半导体模块的模型参数，利用固体传热模块和半导体模块，得到半导体模块的物理参数，其中，半导体模块是基于超...
- 谭满清张学琛郭文涛
- ECR Plasma CVD淀积光电器件介质膜的工艺模拟
- 2000年
- 以实验数据为基础,运用人工神经网络方法,建立了电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECRPlasmaCVD)淀积硅的氮、氧化物介质膜的折射率、速率与气流配比Q(N2)/Q(SiH4)和Q(O2)/Q(SiH4)关系的数学模型,此模型在给定气流配比Q(N2)/Q(SiH4)和Q(O2)/Q(SiH4)时所预测的成模折射率跟实验值符合得很好,为ECRPlasmaCVD淀积全介质光学膜的工艺打下坚实的基础。
- 谭满清陆建祖李玉鉴
- 基于InP/空气隙分布布拉格反射镜的微机械可调谐光滤波器被引量：1
- 2006年
- 采用表面微机械技术制作了一种1 310 nm基于InP/空气隙分布布拉格反射镜的微机械可调谐Fabry-Perot光滤波器。该滤波器的通光孔直径约为70μm,在1.4 V的调谐电压下,调谐范围达到15 nm。并采用光学传输矩阵方法,分析了斜入射对这种可调谐光滤波器透射谱的峰值半高宽的影响。
- 侯识华孙捷毛容伟吴旭明马骁宇谭满清陈良惠
- 关键词：可调谐滤波器分布布拉格反射镜FABRY-PEROT
- 单片集成式主振荡功率放大器研究进展
- 2023年
- 单片集成式主振荡功率放大器(MOPA)具有体积小、功率大、光束质量高等优势,通过集成布拉格光栅,还能够实现窄线宽和动态单模,在倍频、泵浦、光通信和传感等领域具有重要应用价值,是近年来半导体光电子器件的研究热点。本文梳理了单片集成式MOPA的主流结构,包括锥形、脊型、布拉格光栅型和三段式MOPA,以各自的工作原理和性能特征为出发点,介绍其主要的研究方向,并结合它们各自面临的问题介绍最新的发展趋势。针对单片集成式MOPA中普遍存在的高功率下光束质量退化的问题,梳理了近年在外延层结构、腔面光学薄膜和电极设置等方面的优化设计,重点总结了单片集成式MOPA在提高光束质量及高功率、容线宽及高亮度方面的重要进展。围绕不同领域的应用需求,整理了具备高功率、窄线宽、高光束质量和高亮度等性能特征的单片集成式MOPA的研究进展,最后展望了单片集成式MOPA的发展趋势。
- 谭满清游道明郭文涛郭文涛
- 关键词：主振荡功率放大器半导体激光器半导体光放大器优化设计
- ECR Plasma CVD淀积介质膜的工艺模拟
- 1999年
- 以实验数据为基础，运用人工神经网络方法，建立了电子回旋共振等离子体化学气相沉积（ＥＣＲ Ｐｌａｓｍ ａ ＣＶＤ）淀积硅的氮、氧化物介质膜折射率ｎ 与气流配比Ｑ（Ｎ２）／Ｑ（ＳｉＨ４）和Ｑ（Ｏ２）／Ｑ（ＳｉＨ４）关系的数学模型，此模型在给定气流配比Ｑ（Ｎ２ ）／Ｑ（ＳｉＨ４）和Ｑ（Ｏ２）／Ｑ（ＳｉＨ４）时所预测的成膜折射率跟实验值符合得很好，该数学模型为ＥＣＲ Ｐｌａｓｍ ａ ＣＶＤ淀积全介质光学膜的工艺模拟打下坚实的基础。
- 谭满清陆建祖李玉鉴
- 关键词：ECRPLASMACVDCVD
