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王兴民

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：中国科学院空间科学与应用研究中心更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇氮化
  • 1篇氮化硼
  • 1篇氮化硼薄膜
  • 1篇中立
  • 1篇离子束
  • 1篇离子束增强沉...
  • 1篇立方氮化硼
  • 1篇轰击

机构

  • 1篇北京师范大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇黄小刚
  • 1篇王兴民
  • 1篇况园珠

传媒

  • 1篇真空

年份

  • 1篇1997
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
镀膜参数对离子束增强沉积氮化硼薄膜中立方相含量的影响被引量：1
1997年
本文介绍用离子束增强沉积（ＩＢＥＤ）法在硅片上制备氮化硼（ＢＮ）薄膜及镀膜参数对膜中立方氮化硼（ｃ－ＢＮ）含量的影响的试验研究，主要研究轰击离子束密、镀膜速率、轰击束中氩气的含量及衬底温度的影响。用红外（ＩＲ）谱对膜进行了分析，结果指出：（１）在给定的轰击束能量与束密下氮化硼薄膜中立方相的含量是随镀膜速率而变化的，且存在一个最佳镀膜速率值；（２）提高离子轰击束密，则此最佳镀膜速率值也相应增大；（３）镀膜速率又是随轰击束密及轰击束中氩气含量的增大而减小的；（４）衬底温度在４００℃以下时，膜中ｃ－ＢＮ相的含量随温度提高而增加。
况园珠黄小刚尢大纬王兴民王兴民
关键词：立方氮化硼离子束增强沉积
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