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喜开理株式会社

作品数：295 被引量：0H指数：0
相关机构：东京毅力科创株式会社索尼株式会社东佑达自动化科技股份有限公司更多>>
相关领域：自动化与计算机技术文化科学动力工程及工程热物理交通运输工程更多>>

合作机构

机构类别

  • 6个企业机构

领域

  • 5个电子电信
  • 5个文化科学
  • 4个化学工程
  • 3个金属学及工艺
  • 3个电气工程
  • 3个自动化与计算...
  • 3个医药卫生
  • 3个理学
  • 2个经济管理
  • 2个机械工程
  • 2个动力工程及工...
  • 2个建筑科学
  • 2个轻工技术与工...
  • 2个交通运输工程
  • 2个环境科学与工...
  • 2个一般工业技术
  • 2个政治法律
  • 2个艺术
  • 1个天文地球
  • 1个矿业工程

主题

  • 5个电压
  • 5个树脂
  • 4个散热
  • 4个凸起
  • 4个轴承
  • 3个单层膜
  • 3个单晶
  • 3个单晶硅
  • 3个外侧面
  • 2个带电
  • 2个带宽
  • 2个带轮
  • 2个带通
  • 2个带通滤波
  • 2个带通滤波器
  • 2个代理
  • 2个待机
  • 2个待机时间
  • 2个待机状态
  • 2个单键

传媒

  • 1个表面技术
  • 1个压电与声光
  • 1个新材料产业
  • 1个科技创新导报
  • 1个第四届全国建...
共 6 条 记 录，以下是 1-6
东京毅力科创株式会社
研究主题：基板 等离子体 等离子体处理 蚀刻 晶片
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
东佑达自动化科技股份有限公司
研究主题：滑座 模组 穿孔 转子 滚珠
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
索尼株式会社
研究主题：图像 记录介质 显示装置 信息处理方法 像素
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
日本东北先锋公司
研究主题：扬声器 音圈 基板 有机EL面板 有机层
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
奥克泰克有限公司
研究主题：氧化膜 探针 查体 布线结构 布线
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
关东化学株式会社
研究主题：组合物 蚀刻液 蚀刻 光致抗蚀剂 残渣
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
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