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东京电子有限公司

作品数：13 被引量：0H指数：0
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合作机构

文献类型

  • 12篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 11篇等离子体
  • 5篇等离子
  • 5篇等离子体源
  • 5篇离子
  • 5篇离子化
  • 4篇淀积
  • 4篇真空室
  • 4篇稠密等离子体
  • 3篇等离子体密度
  • 3篇晶片
  • 3篇高密度等离子...
  • 3篇磁控溅射靶
  • 2篇等离子体淀积
  • 2篇等离子体加热
  • 2篇低压
  • 2篇电感
  • 2篇电感元件
  • 2篇电感耦合
  • 2篇镀膜
  • 2篇镀膜材料

机构

  • 13篇东京电子有限...
  • 2篇东京电子亚利...

传媒

  • 1篇表面技术

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2006
  • 2篇2005
  • 2篇2004
  • 2篇2003
  • 2篇2002
  • 2篇2001
  • 1篇2000
共 13 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
在电感耦合的等离子体内改善等离子体分布及性能的设备
一种采用等离子体(28)处理衬底(18)的处理系统(12)包括:处理室(13),该处理室确定了一处理空间(14)并包括在该空间内支承衬底(18)的衬底支承件(17);将处理气体导入上述处理空间(14)的气体入口(20)。...
约瑟夫·布里卡
文献传递
化学气相沉积室钝化方法
说明了一种方法,用该方法可在湿式清洗(10)或就地清洗(20)后或在每次进行沉积(40)后有效地调理、钝化用来沉积等离子体增强Ti－CVD薄膜的处理室。该方法可使Ti－PECVD之类CVD过程在最短时间中、经最少量调理晶...
迈克尔·S·阿明约瑟夫·T·希尔曼格特·洛伊申克迈克尔·沃德图鲁尔·亚沙尔
文献传递
在电感耦合的等离子体内改善等离子体分布及性能的设备
一种采用等离子体(28)处理衬底(18)的处理系统(12)包括：处理室(13)，该处理室确定了一处理空间(14)并包括在该空间内支承衬底(18)的衬底支承件(17)；将处理气体导入上述处理空间(14)的气体入口(20)。...
约瑟夫·布里卡
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离子化物理蒸汽沉积方法和离子化物理蒸汽沉积装置
装置(500)的一个方法提供离子化物理汽相沉积(IPVD)，该装置对从一个环形磁控管溅射靶(10)溅射导电金属镀膜材料特别有用。该被溅射材料在靶(10)与一个片基(100)之间的某个处理空间内被离子化，方法是利用位于真空...
约翰·斯蒂芬·德勒沃瑞约瑟夫·布拉卡格林·雷诺兹米尔科·武科维奇德里克·安德鲁·拉塞尔迈克尔·詹姆斯·格拉佩豪斯小弗兰克·迈克尔·切里奥布鲁斯·戴维·吉特尔曼
文献传递
离子化物理蒸汽沉积的方法和装置
装置(500)的一个方法提供离子化物理蒸汽沉积(IPVD)，该装置对从一个环形磁控管溅射靶(10)溅射导电金属镀膜材料特别有用。该被溅射材料在靶(10)与一个片基(100)之间的某个处理空间内被离子化，方法是利用位于真空...
约翰·斯蒂芬·德勒沃瑞约瑟夫·布拉卡格林·雷诺兹米尔科·武科维奇德里克·安德鲁·拉塞尔迈克尔·詹姆斯·格拉佩豪斯小弗兰克·迈克尔·切里奥布鲁斯·戴维·吉特尔曼
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采用磁桶和同心等离子体源及材料源的等离子体淀积方法及设备
将导电金属涂敷材料从磁控溅射靶(51)上溅射出来,利用带有射频能量的高密度等离子体使溅射出的导电金属涂敷材料在真空处理空间内离子化,射频耦合能量来自线圈(65),线圈(65)位于真空室(31)外面、绝缘窗(61)后面,真...
米尔科·武科维奇
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采用磁桶和同心等离子体源及材料源的离子化物理气相淀积装置
将导电金属涂敷材料从磁控溅射靶(51)上溅射出来，利用带有射频能量的高密度等离子体使溅射出的导电金属涂敷材料在真空处理空间内离子化，射频耦合能量来自线圈(65)，线圈(65)位于真空室(31)外面、绝缘窗(61)后面，真...
米尔科·武科维奇
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化学气相沉积室钝化方法
说明了一种方法，用该方法可在湿式清洗(10)或就地清洗(20)后或在每次进行沉积(40)后有效地调理、钝化用来沉积等离子体增强Ti-CVD薄膜的处理室。该方法可使Ti-PECVD之类CVD过程在最短时间中、经最少量调理晶...
迈克尔·S·阿明约瑟夫·T·希尔曼格特·洛伊申克迈克尔·沃德图鲁尔·亚沙尔
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用于离子化物理气相淀积的方法和装置
由装置(40)的方法提供了离子化物理气相淀积(IPVD)，用于将导电金属涂层材料从一环形磁控管溅射靶(51)溅射出来。通过用从一线圈(65)耦合的能量在空间中产生一稠密等离子体，该溅射材料在一位于靶(51)与一基片之间的...
约翰·S·德鲁里托马斯·J·利卡塔
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用于离子化物理气相淀积的方法和装置
由装置(40)的方法提供了离子化物理气相淀积(IPVD),用于将导电金属涂层材料从一环形磁控管溅射靶(51)溅射出来。通过用从一线圈(65)耦合的能量在空间中产生一稠密等离子体,该溅射材料在一位于靶(51)与一基片之间的...
约翰·S·德鲁里托马斯·J·利卡塔
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