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国家科技重大专项(2009ZX02308)
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刘玉岭
王辰伟
周云飞
刘效岩
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刘玉岭
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
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王辰伟
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
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周云飞
供职机构:华中科技大学
研究主题:数控加工 数控机床 高速高精 误差补偿 直线电机
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刘效岩
供职机构:北京七星华创电子股份有限公司
研究主题:化学机械抛光 CMP 晶片 工艺技术 硅片表面
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程鑫
供职机构:武汉理工大学
研究主题:磁悬浮轴承 磁悬浮 磁悬浮列车 热电材料 真空管道
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郑伟艳
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:CMP 铜布线 碱性抛光液 化学机械平坦化 碱性
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王胜利
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 化学机械抛光 抛光液 螯合剂 去除速率
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尹康达
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:碱性抛光液 CMP 化学机械平坦化 选择性 碱性
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田雨
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 化学机械抛光 粗糙度 表面粗糙度 磨料
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田巧伟
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:铜布线 CMP 化学机械抛光 碱性抛光液 纳米SIO
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