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天津市自然科学基金(0438014211)

作品数：3 被引量：4H指数：1
相关作者：刘玉岭宁培桓唐文栋田军项霞更多>>
相关机构：河北工业大学更多>>
发文基金：天津市自然科学基金河北省教育厅科学技术研究计划国家教育部博士点基金更多>>
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主题

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机构

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资助

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地区

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共 11 条 记 录，以下是 1-10
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
唐文栋
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP 硬盘基板 化学机械抛光 粗糙度 浆料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
宁培桓
供职机构：河北工业大学信息工程学院
研究主题：SI 硅晶片 单晶片 黏度 切削液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
魏恒
供职机构：河北工业大学
研究主题：粗糙度 去除速率 表面粗糙度 化学机械抛光 蓝宝石衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
穆会来
供职机构：河北工业大学
研究主题：抛光液 抛光 化学机械抛光 钽 晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙业林
供职机构：河北工业大学
研究主题：粗糙度 去除速率 化学机械抛光 表面粗糙度 蓝宝石衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘效岩
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：化学机械抛光 CMP 晶片 工艺技术 硅片表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田军
供职机构：河北工业大学
研究主题：硬盘基板 CMP 粗糙度 计算机 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘金玉
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 蓝宝石衬底 CMP 后表面 电化学
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
谢竹石
供职机构：河北工业大学信息工程学院
研究主题：鉴频鉴相器 锁相环 低噪声 粗糙度 氧化剂
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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