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王伟

作品数：5 被引量：6H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
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合作作者

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资助

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传媒

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  • 1个微纳电子技术
  • 1个动力学与控制...
共 7 条 记 录，以下是 1-7
李伟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 CMP设备 有限元分析
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
柳滨
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 抛光液 半导体材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈威
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 有限元模型 有限元分析 300MM硅片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王东辉
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 氮化镓 半导体材料 碳化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭强生
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：粘片机 集成电路 视觉检测 发光二极管 伺服控制系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张继静
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：超声扫描 无损检测 化学机械抛光 声学 超声
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王文举
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：磁浮 步进电机控制系统 步进电机 AVR单片机 半导体设备
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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