您的位置： 专家智库 > >

宋晶

作品数：4 被引量：13H指数：3
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 7个电子电信
  • 3个机械工程
  • 2个化学工程
  • 2个金属学及工艺
  • 2个一般工业技术
  • 1个电气工程
  • 1个自动化与计算...

主题

  • 7个单晶
  • 6个单晶片
  • 6个抛光
  • 6个晶片
  • 6个化学机械抛光
  • 6个机械抛光
  • 5个抛光片
  • 5个翘曲度
  • 5个化学腐蚀
  • 4个电池
  • 4个电子能
  • 4个电子能谱
  • 4个损伤层
  • 4个太阳电池
  • 4个特性分析
  • 4个抛光工艺
  • 4个控制方法
  • 3个多结太阳电池
  • 3个形貌
  • 3个一致性

机构

  • 7个中国电子科技...
  • 1个天津大学
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 2个国家高技术研...
  • 2个国家自然科学...
  • 2个国家科技部专...

传媒

  • 7个半导体技术
  • 6个电子工业专用...
  • 4个电子工艺技术
  • 3个微纳电子技术
  • 2个节能技术
  • 2个天津科技
  • 2个材料导报
  • 2个中国电子科学...
  • 1个电源技术
  • 1个压电与声光
  • 1个中国新技术新...
  • 1个中国科技期刊...

地区

  • 6个天津市
  • 1个北京市
共 7 条 记 录，以下是 1-7
赵权
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 单晶片 表面粗糙度 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张伟才
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 化学机械抛光 机械强度 IPA
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨洪星
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：锗 单晶片 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
秦学敏
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：化学腐蚀 粗糙度 光洁度 单晶片 特性分析
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
于妍
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：粗糙度 化学腐蚀 碱性腐蚀 单晶片 硅单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吕菲
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：粗糙度 抛光片 化学腐蚀 单晶片 锗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
武永超
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：超薄 化学机械抛光 半导体行业 激光技术 激光打标
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0