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郑环

作品数：7 被引量：14H指数：3
供职机构：河北工业大学更多>>
发文基金：河北省自然科学基金河北省教育厅科研基金国家中长期科技发展规划重大专项更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

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  • 1个文化科学
  • 1个自然科学总论

主题

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  • 8个阻挡层
  • 8个化学机械抛光
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  • 3个低K介质
  • 3个低K介质材料
  • 3个电化学过程
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  • 3个电位

机构

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  • 1个中国人民政治...

资助

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传媒

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  • 2个电子工艺技术
  • 2个润滑与密封
  • 2个电子器件
  • 2个微细加工技术
  • 2个清洗世界
  • 2个电子设计工程
  • 1个教育与职业
  • 1个粉末冶金技术

地区

  • 5个天津市
  • 3个河北省
共 8 条 记 录，以下是 1-8
王辰伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周建伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 硅溶胶 抛光液 硅晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张乐
供职机构：河北工业大学电子信息工程学院
研究主题：CMP 化学机械抛光 H2O2 阻挡层 RU
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王仲杰
供职机构：河北工业大学电子信息工程学院
研究主题：CMP 化学机械抛光 去除速率 表面粗糙度 RU
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高宝红
供职机构：河北工业大学
研究主题：抛光液 CMP 化学机械抛光 铜布线 阻挡层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王胜利
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 抛光液 螯合剂 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张文倩
供职机构：河北工业大学电子信息工程学院
研究主题：CMP 化学机械抛光 去除速率 铝栅 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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