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刘晓伟

作品数：3 被引量：8H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信机械工程更多>>

合作作者

领域

  • 5个电子电信
  • 4个机械工程
  • 2个电气工程
  • 2个一般工业技术
  • 1个化学工程
  • 1个金属学及工艺
  • 1个自动化与计算...

主题

  • 5个单晶
  • 5个抛光片
  • 5个化学机械抛光
  • 5个机械抛光
  • 4个单晶片
  • 4个抛光
  • 4个磷化铟
  • 4个面粗糙度
  • 4个晶片
  • 4个硅单晶
  • 3个电池
  • 3个电子能
  • 3个电子能谱
  • 3个多结太阳电池
  • 3个损伤层
  • 2个低应力
  • 2个形貌
  • 2个一致性
  • 2个应力
  • 2个原子力显微镜

机构

  • 5个中国电子科技...
  • 1个天津大学
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 3个国家科技部专...
  • 2个国家高技术研...
  • 1个国家自然科学...

传媒

  • 5个电子工业专用...
  • 4个半导体技术
  • 4个电子工艺技术
  • 3个天津科技
  • 2个微纳电子技术
  • 1个节能技术
  • 1个电源技术
  • 1个材料导报
  • 1个压电与声光
  • 1个中国电子科学...
  • 1个城市建设理论...

地区

  • 4个天津市
  • 1个北京市
共 5 条 记 录，以下是 1-5
杨洪星
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：锗 单晶片 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵权
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 单晶片 表面粗糙度 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈亚楠
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光 清洗技术 抛光垫 硅抛光片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
窦连水
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅晶片 硅单晶片 电阻率 粗糙度 超薄
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
武永超
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：超薄 化学机械抛光 半导体行业 激光技术 激光打标
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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