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徐存良

作品数：6 被引量：14H指数：3
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
发文基金：国家科技重大专项更多>>
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合作作者

领域

  • 8个电子电信
  • 3个自动化与计算...
  • 2个建筑科学
  • 1个金属学及工艺
  • 1个机械工程
  • 1个电气工程

主题

  • 8个化学机械抛光
  • 8个机械抛光
  • 7个CMP
  • 7个CMP设备
  • 6个抛光
  • 6个抛光垫
  • 5个平坦化
  • 5个温度
  • 5个化学机械平坦...
  • 4个温度控制
  • 4个晶圆
  • 3个修整
  • 3个修整器
  • 3个旋转木马
  • 3个原子力显微镜
  • 3个扫描电子显微...
  • 3个气动
  • 3个气动控制
  • 3个气动控制系统
  • 3个转塔

机构

  • 8个中国电子科技...
  • 2个电子工业部
  • 2个中华人民共和...
  • 2个中国电子科技...
  • 1个华中科技大学

资助

  • 6个国家科技重大...
  • 2个北京市教育委...
  • 1个国家自然科学...
  • 1个中国博士后科...
  • 1个电子信息产业...
  • 1个中央高校基本...

传媒

  • 8个电子工业专用...
  • 3个微纳电子技术
  • 2个半导体技术
  • 2个微细加工技术
  • 1个机械工程学报
  • 1个集成电路应用
共 8 条 记 录，以下是 1-8
高文泉
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP CMP设备 化学机械抛光 夹持 温度控制
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李伟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 CMP设备 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈波
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP CMP设备 大盘 温度 水压
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周国安
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 化学机械抛光 抛光液 抛光垫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭强生
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：粘片机 集成电路 视觉检测 发光二极管 伺服控制系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
丁彭刚
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：PID控制 多线切割机 同步控制 切割机 CMP
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
柳滨
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 抛光液 半导体材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
詹阳
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 抛光垫 承载器 ZETA电位
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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