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张乐

作品数：4 被引量：10H指数：3
供职机构：河北工业大学电子信息工程学院更多>>
发文基金：河北省自然科学基金河北省教育厅科研基金国家中长期科技发展规划重大专项更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

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主题

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  • 8个阻挡层
  • 8个化学机械抛光
  • 8个机械抛光
  • 8个CMP
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  • 6个抛光
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  • 5个电偶腐蚀
  • 5个电阻
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  • 5个抛光速率
  • 5个平坦化
  • 4个电化学
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机构

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  • 1个河北工学院
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资助

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  • 2个清洗世界
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  • 1个教育与职业
  • 1个粉末冶金技术

地区

  • 6个天津市
  • 2个河北省
共 8 条 记 录，以下是 1-8
王辰伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周建伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 硅溶胶 抛光液 硅晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郑环
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 阻挡层 RU 非离子
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王仲杰
供职机构：河北工业大学电子信息工程学院
研究主题：CMP 化学机械抛光 去除速率 表面粗糙度 RU
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高娇娇
供职机构：河北工业大学电子信息工程学院
研究主题：CMP 阻挡层 抛光液 化学机械抛光 碱性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王胜利
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 抛光液 去除速率 螯合剂
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
潘辉
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：H2O2 CMP 化学机械抛光 阻挡层 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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