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陈晨

作品数：11 被引量：11H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信理学一般工业技术更多>>

合作作者

领域

  • 17个电子电信
  • 11个一般工业技术
  • 6个电气工程
  • 4个金属学及工艺
  • 4个理学
  • 3个化学工程
  • 3个机械工程
  • 3个文化科学
  • 2个自动化与计算...
  • 1个冶金工程
  • 1个轻工技术与工...
  • 1个环境科学与工...
  • 1个社会学

主题

  • 16个单晶
  • 14个晶片
  • 12个单晶片
  • 12个抛光片
  • 12个锗
  • 12个粗糙度
  • 11个硅单晶
  • 10个厚度变化
  • 9个抛光
  • 9个面粗糙度
  • 9个半导体
  • 8个电池
  • 7个英寸
  • 7个锗单晶
  • 7个损伤层
  • 7个清洗技术
  • 6个电子能
  • 6个电子能谱
  • 6个硅单晶片
  • 5个碳化硅

机构

  • 17个中国电子科技...
  • 3个中国电子科技...
  • 2个天津大学
  • 1个河北工业大学
  • 1个中国电子科技...
  • 1个天津电子材料...

资助

  • 4个国家自然科学...
  • 2个天津市自然科...
  • 2个国家部委资助...
  • 2个国家科技部专...
  • 1个国家高技术研...
  • 1个河北省自然科...
  • 1个中国人民解放...

传媒

  • 15个电子工业专用...
  • 14个半导体技术
  • 10个电子工艺技术
  • 7个材料导报
  • 7个微纳电子技术
  • 7个中国电子科学...
  • 6个节能技术
  • 6个天津科技
  • 5个人工晶体学报
  • 5个压电与声光
  • 2个电源技术
  • 2个科技创新导报
  • 1个Journa...
  • 1个河南科技
  • 1个稀有金属
  • 1个传感技术学报
  • 1个功能材料与器...
  • 1个光电子技术
  • 1个电脑乐园
  • 1个天津科技大学...

地区

  • 14个天津市
  • 3个北京市
共 17 条 记 录，以下是 1-10
杨洪星
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：锗 单晶片 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王云彪
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 表面粗糙度 超薄 磷化铟
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何远东
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 翘曲度 表面粗糙度 单晶 清洗液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张伟才
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 化学机械抛光 机械强度 IPA
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨静
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：化学腐蚀 MEMS 研磨 测厚 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韩焕鹏
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：硅单晶 锗 单晶炉 晶片 单晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
耿莉
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 超薄 表面粗糙度 单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
范红娜
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：清洗技术 抛光片 粗糙度 锗 研磨
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
兰天平
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：VGF 砷化镓 位错密度 VB GAAS
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴华
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：SIC 石墨烯 电阻率 半绝缘 高温
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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