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栾晓东
作品数:
11
被引量:36
H指数:5
供职机构:
河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
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发文基金:
国家中长期科技发展规划重大专项
河北省自然科学基金
天津市自然科学基金
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相关领域:
电子电信
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合作作者
刘玉岭
河北工业大学电子信息工程学院
王辰伟
河北工业大学电子信息工程学院
赵亚东
河北工业大学电子信息工程学院
牛新环
河北工业大学电子信息工程学院
王仲杰
河北工业大学电子信息工程学院
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刘玉岭
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
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王辰伟
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
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赵亚东
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 化学机械抛光 碱性抛光液 抛光速率 掩膜
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牛新环
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 碱性抛光液
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王仲杰
供职机构:河北工业大学电子信息工程学院
研究主题:CMP 化学机械抛光 去除速率 表面粗糙度 RU
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张文倩
供职机构:河北工业大学电子信息工程学院
研究主题:CMP 化学机械抛光 去除速率 铝栅 表面粗糙度
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高娇娇
供职机构:河北工业大学电子信息工程学院
研究主题:CMP 阻挡层 抛光液 化学机械抛光 碱性
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刘桂林
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:CMP 阻挡层 碟形 碱性 去除速率
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闫辰奇
供职机构:河北工业大学电子信息工程学院
研究主题:CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 去除速率 碱性抛光液
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张玉峰
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 表面活性剂 表面粗糙度 阻挡层
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