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刘丹丹

作品数：89 被引量：76H指数：5
供职机构：天津津航技术物理研究所更多>>
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刘华松
供职机构：天津津航技术物理研究所
研究主题：光学薄膜 光学常数 离子束溅射 透过率 红外波段
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
季一勤
供职机构：天津津航技术物理研究所
研究主题：光学薄膜 光学常数 离子束溅射 长波 SIO2薄膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
姜玉刚
供职机构：天津津航技术物理研究所
研究主题：光学薄膜 离子束溅射 光学常数 透过率 激光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
姜承慧
供职机构：天津津航技术物理研究所
研究主题：光学常数 光学薄膜 离子束溅射 光谱 膜系
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨霄
供职机构：天津津航技术物理研究所
研究主题：光学薄膜 光学常数 长波 分色 光学窗口
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈丹
供职机构：天津津航技术物理研究所
研究主题：光学薄膜 光学常数 透过率 激光 滤光片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙鹏
供职机构：天津津航技术物理研究所
研究主题：光学薄膜 光学常数 长波 分色 光学窗口
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
冷健
供职机构：天津津航技术物理研究所
研究主题：长波 光学薄膜 膜层 光学常数 分色
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈德应
供职机构：哈尔滨工业大学
研究主题：激光雷达 激光器 太赫兹 碰撞截面 激光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张锋
供职机构：中国航天
研究主题：光学常数 离子束溅射 SIO2薄膜 非均匀性校正 红外焦平面阵列
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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