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詹阳

作品数：13 被引量：36H指数：4
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 17个电子电信
  • 7个自动化与计算...
  • 5个建筑科学
  • 3个机械工程
  • 2个电气工程

主题

  • 15个CMP
  • 14个抛光
  • 13个抛光垫
  • 13个化学机械抛光
  • 13个机械抛光
  • 11个平坦化
  • 11个化学机械平坦...
  • 8个承载器
  • 6个修整器
  • 6个温度
  • 6个温度控制
  • 5个抛光机
  • 5个平整度
  • 4个单点
  • 4个氮化镓
  • 4个多线切割机
  • 4个原子力显微镜
  • 4个扫描电子显微...
  • 4个铜布线
  • 4个抛光液

机构

  • 17个中国电子科技...
  • 3个中华人民共和...
  • 2个中国电子科技...
  • 2个中国电子科技...
  • 1个北京信息科技...
  • 1个华中科技大学
  • 1个电子工业部

资助

  • 6个国家科技重大...
  • 4个北京市教育委...
  • 1个国家自然科学...
  • 1个中国博士后科...
  • 1个电子信息产业...
  • 1个中央高校基本...

传媒

  • 15个电子工业专用...
  • 6个微纳电子技术
  • 5个半导体技术
  • 4个微细加工技术
  • 2个集成电路应用
  • 2个计算机测量与...
  • 1个制造业自动化
  • 1个机械工程学报
共 17 条 记 录，以下是 1-10
周国安
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 化学机械抛光 抛光液 抛光垫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
柳滨
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 抛光液 半导体材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王学军
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 化学机械平坦化 光学 抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王东辉
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 氮化镓 半导体材料 碳化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李伟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 CMP设备 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
种宝春
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：多线切割机 CMP 化学机械抛光 砂浆 动态特性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨元元
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 氮化镓 半导体材料 碳化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张伟锋
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP ZETA电位 晶圆清洗 兆声清洗 CCD
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
凃佃柳
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 抛光垫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
靳永吉
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：多线切割机 线锯 砂浆 钢线 CMP
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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