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李耀东

作品数：3 被引量：28H指数：2
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共 11 条 记 录，以下是 1-10
库黎明
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：硅片 抛光 300MM硅片 平整度 硅片表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王新
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：大尺寸 CMP 硅片 机械抛光 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
鲁进军
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：超大规模集成电路 300MM硅片 硅片 化学机械抛光 氧浓度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘红艳
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：硅片 HF RCA清洗 硅片清洗 声波
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
林霖
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：超大规模集成电路 300MM硅片 硅片 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘斌
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：氧沉淀 微缺陷 多晶硅 硅片 CZ硅单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王继
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：超大规模集成电路 300MM硅片 硅片 化学机械抛光 表面形貌
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周旗钢
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：硅单晶 硅片 300MM硅片 单晶硅 直拉硅单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王敬
供职机构：清华大学
研究主题：沟道 半导体结构 场效应晶体管 晶体管 栅结构
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
闫志瑞
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：硅片 硅片清洗 300MM硅片 硅片表面 清洗工艺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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