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陈波

作品数:3 被引量:1H指数:1
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4 条 记 录,以下是 1-4
徐存良
供职机构:中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题:CMP 化学机械平坦化 CMP设备 RCA 湿法清洗
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高文泉
供职机构:中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题:CMP CMP设备 化学机械抛光 夹持 温度控制
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
柳滨
供职机构:中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题:CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 抛光液 半导体材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈威
供职机构:中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题:化学机械抛光 CMP 300MM硅片 有限元模型 有限元分析
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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