董会
- 作品数：21 被引量：13H指数：3
- 供职机构：中国工程物理研究院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金中国工程物理研究院发展基金四川省应用基础研究计划项目更多>>
- 相关领域：金属学及工艺机械工程医药卫生化学工程更多>>
- 一种用于KDP晶体的油包酸性离子液体抛光液
- 本发明提供了一种用于KDP晶体的油包酸性离子液体抛光液，所述抛光液由油相、分散相溶剂、酸性离子液体（AIL）、表面活性剂以及助表面活性剂组成。在表面活性剂和助表面活性剂的作用下，AIL溶液作为分散相被包覆在油相中，形成油...
- 董会潘金龙王利利王超李晓媛高伟黄姝珂吉方王宝瑞
- 文献传递
- 酸碱度对磁流变抛光去除作用的调节机制被引量：6
- 2019年
- 随着磁流变抛光技术在超精密加工领域的应用需求不断增长,提高该技术的抛光效率成为一种必然趋势。本文从研究磁流变抛光液料浆的性质出发,建立了以pH值调节为手段改善抛光液性能的实验方法。采用透射电镜、粒度分析,黏度测试和Zeta电位测试等实验分析表征了抛光颗粒的分散行为及料浆的流变特性,并对抛光料浆特性进行了研究和优化。结果表明当pH值为12时,抛光料浆具有绝对值最大的Zeta电位(33.28 mV)和最小的颗粒粒径(260 nm),获得了抛光颗粒分散均匀、悬浮性能稳定的料浆。使用该料浆抛光液与初始抛光液在相同工艺条件下对熔石英进行抛光。实验结果表明,在未明显恶化表面粗糙度的前提下,该抛光液的峰去除效率和体去除效率分别提升87%和66%,获得了良好、高效的去除效果。
- 李晓媛叶敏恒刘佳保田东张云飞董会王超
- 关键词：磁流变抛光酸碱度粗糙度熔石英
- 一种用于KDP晶体的化学抛光液、制备方法及抛光方法
- 本发明公开了一种用于KDP晶体的化学抛光液、制备方法及抛光方法。该抛光液由植物油、有机酸、离子液体、表面活性剂、助表面活性剂组成，是一种新型的完全无水的微乳液。本发明的抛光液，制备方法简单、性质稳定且使用方法简单，能够实...
- 董会潘金龙王英英叶作彦王利利李晓媛叶敏恒秦代成高伟黄姝珂王超
- 文献传递
- 一种用于KDP晶体的抛光液及其制备方法、应用
- 本发明公开了一种用于KDP晶体的抛光液及其制备方法、应用，所述抛光液由以下体积百分比组分组成：极性相：1～10％；非极性相：30％～55％；余量为双溶剂相。本发明的抛光液制备方法简单、性质稳定，在较低的抛光压力下(1～2...
- 董会潘金龙郭亮龙黄姝珂王超王利利李晓媛叶敏恒
- 文献传递
- 高压脉冲电场咖啡液灭菌实验及跨膜电压仿真研究
- 2022年
- 针对咖啡液中酵母菌快速、高效、安全无害的灭菌需求,研究了高压脉冲电场(HPEF)灭菌技术在咖啡液酵母菌灭活中的可行性以及影响因素,本文在实验室设计并搭建了一套高压脉冲电场灭菌装置,探究了高压脉冲电场电压幅值、充电电容容量以及脉冲作用时间对咖啡液中酵母菌残活率的影响规律。实验结果表明,酵母菌细胞的残活率随脉冲电压的增大而降低,随充电电容的增大而降低,随脉冲时间的增加而降低。根据电崩解理论,推导了单个酵母菌细胞在脉冲电场中的跨膜电压计算公式,并对高压脉冲电场下咖啡液中酵母菌的跨膜电压分布进行了仿真分析,仿真结果可以解释实验现象。
- 李峰刘昊董会魏建华
- 关键词：高压脉冲电场灭菌仿真
- KDP晶体表面残留磁流变抛光液清洗技术研究(英文)
- 2018年
- 磷酸二氢钾(KDP)晶体是一种非常优良的非线性光学晶体材料,在强激光系统中有着重要应用。但其理化性质特殊,加工高表面质量的元件难度很大。目前研究认为磁流变抛光技术能够获得高精度的KDP晶体表面,但是该加工过程带入的表面残留如不清除,会大大降低元件的性能。提出了一种针对磁流变抛光后续的KDP的清洗技术,设计了含水活性清洗液,结合超高频超声作用共同去除KDP表面残留。光学显微镜和白光干涉仪分析表明,该技术较好地去除了表面残留,并且晶体表面粗糙度有所降低。拉曼光谱和激光干涉仪测试表明,清洗前后KDP表面化学结构和面形精度一致。该研究获得了较为满意的结果,说明该方法是一种有应用前景的KDP超精密清洗方法。
- 李晓媛高伟田东董会吉方王超
- 关键词：光学晶体KDPMRF
- KDP无磨粒抛光微机械作用力学模型建立与仿真被引量：4
- 2020年
- 无磨粒化学机械抛光是一种柔和的表面处理方法,可以有效去除磷酸二氢钾(KDP)晶体表面的小尺度飞切刀纹。在抛光过程中不使用磨粒,KDP晶体与抛光垫粗糙峰直接接触,两者之间相对运动,在表面接触应力的作用下,抛光垫对KDP晶体表面产生微机械作用,在实现材料去除和改善表面质量方面具有重要的作用。为了深入了解无磨粒化学机械抛光中微机械去除作用,文章通过研究表面接触应力分布和变化规律,对抛光过程中的微机械作用进行定量分析,建立了KDP晶体与抛光垫粗糙峰接触力学的数学模型并开展系统研究。根据Hertz理论对抛光过程中KDP晶体表面接触应力进行了计算与分析,研究了抛光压力、摩擦系数、抛光垫杨氏模量和抛光垫粗糙峰半径等抛光参数对微机械作用的影响规律,获得了不同抛光条件下最大许用抛光压力。结合实验结果,对KDP晶体与抛光垫之间的微机械作用进行了实验验证,进一步揭示了KDP晶体无磨粒化学机械抛光去除机理。
- 郭亮龙董会黄姝珂潘金龙
- 关键词：力学模型
- 一种用于拉曼光谱气体检测的多次反射腔探头及设备
- 本实用新型公开了一种用于拉曼光谱气体检测的多次反射腔探头及设备，涉及气体检测技术领域，解决了现有拉曼光谱气体检测探头激发效率低、信号强度弱的、检测限较低问题，其技术方案要点是：包括由反射腔底座、反射腔上盖组成的主体，反射...
- 董会郭金家杨德旺潘金龙黄姝珂
- 文献传递
- 一种用于拉曼探头的水汽原位标定装置、标定方法及应用
- 本发明公开了一种用于拉曼探头的水汽原位标定装置、标定方法及应用，包括以下步骤：S1：将标定装置组装；S2：设置拉曼信号采集参数；S3：设定温湿度数值；S4：将密封标定舱抽真空，打开温度湿度发生器；S5：采集拉曼光谱仪与温...
- 董会潘金龙李晓媛伍璐琭何华彬王利利叶作彦王英英王超黄姝珂
- 文献传递
- 一种用于KDP晶体的抛光液
- 本发明提供了一种用于磷酸二氢钾（KDP）晶体的抛光液，所述抛光液由油相、表面活性剂和KDP水溶液组成，是一种特殊的油包水微乳液。在表面活性剂的作用下，一定浓度的KDP水溶液作为分散相以纳米级液滴的形式被分散在油相中。在抛...
- 董会王利利潘金龙高伟李晓媛王超黄姝珂吉方王宝瑞
- 文献传递
