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巩爽

作品数：1 被引量：2H指数：1
供职机构：华北光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇光刻
  • 1篇光刻技术

机构

  • 1篇华北光电技术...

作者

  • 1篇杨春莉
  • 1篇郭喜
  • 1篇支淑英
  • 1篇巩爽

传媒

  • 1篇激光与红外

年份

  • 1篇2010
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
适用于厚膜剥离的图形反转双层胶光刻技术被引量：2
2010年
介绍了一种适用于厚膜剥离的图形反转双层胶光刻技术,采用图形反转胶和正型光刻胶,选择合适的光刻工艺形成了光刻胶"倒梯形"的剖面结构,可以成功剥离与胶层厚度相同的膜层,厚度可达13μm。同时对一些技术机理和关键工艺条件进行了讨论。
郭喜支淑英杨春莉巩爽
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共1页<1>
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