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吕艳红

作品数:2 被引量:16H指数:2
供职机构:中国科学院兰州化学物理研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇微观结构
  • 2篇溅射
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇调制周期
  • 1篇耐腐蚀
  • 1篇耐腐蚀性
  • 1篇耐腐蚀性能
  • 1篇溅射制备
  • 1篇腐蚀性
  • 1篇ALN
  • 1篇CR
  • 1篇磁控溅射制备

机构

  • 2篇中国科学院
  • 1篇天水师范学院
  • 1篇中国科学院研...
  • 1篇中国科学院大...

作者

  • 2篇周惠娣
  • 2篇李红轩
  • 2篇刘晓红
  • 2篇陈建敏
  • 2篇吉利
  • 2篇吕艳红
  • 1篇孔庆花
  • 1篇刘流

传媒

  • 2篇中国表面工程

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2011
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
氮气流量对中频非平衡反应磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响被引量:13
2011年
采用中频非平衡反应磁控溅射技术制备CrAlN薄膜,研究了氮气分压对CrAlN薄膜的沉积速率、薄膜成分、微观结构、机械性能和耐腐蚀性能的影响,并与CrN薄膜的性能进行了比较。研究表明,相比较CrN薄膜而言,CrAlN薄膜的硬度高,结构致密,耐腐蚀性好。随着氮气流量的升高,CrAlN薄膜沉积速率降低,Cr/Al比率升高;薄膜中CrN(200)衍射峰强度逐渐增强,六方结构的AlN相逐渐消失;薄膜的粗糙度由39 nm降低至10 nm,并且腐蚀电位升高,耐腐性增强。当氮气流量为53 mL/min时,CrAlN薄膜具有最佳的硬度和优良的耐腐蚀性能。
吕艳红孔庆花吉利李红轩刘晓红陈建敏周惠娣
关键词:磁控溅射微观结构
调制周期对CrAl/CrAlN多层薄膜结构及耐腐蚀性能的影响被引量:4
2013年
采用中频非平衡磁控溅射技术制备CrAl/CrAlN多层薄膜,研究了调制周期对CrAl/CrAlN多层薄膜的微观结构、机械性能和耐腐蚀性能的影响。研究表明:CrAl/CrAlN多层薄膜具有致密的层状结构。随着调制周期的增大,薄膜应力由拉应力转变为压应力,当调制周期为285.7nm时,CrAl/CrAlN多层薄膜的硬度出现了极大值。此外,调制周期对薄膜的耐腐蚀性能有显著的影响。经过96h盐雾(3.5%NaCl)试验,调制周期为142.8nm的CrAl/CrAlN多层薄膜依然没有发生腐蚀现象,表明此条件下CrAl/CrAlN薄膜具有优异的耐腐蚀性能。
吕艳红吉利刘流李红轩刘晓红陈建敏周惠娣
关键词:磁控溅射微观结构耐腐蚀性能
共1页<1>
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