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盐酸强力霉素分子印迹聚合物的制备及分子识别性能: 2011年; 以盐酸强力霉素(DC)为模板分子、甲基丙烯酸为功能单体、乙二醇二甲基丙烯酸酯为交联剂、四氢呋喃(THF)为溶剂,采用本体聚合法制备了DC的分子印迹聚合物.在水溶液中,采用平衡结合方法和Scatchard模型评价了该聚合物的结合特性及识别机理,并考察了DC分子印迹聚合物的选择性吸附能力.结果表明,在所研究的浓度范围内,DC分子印迹聚合物中形成两类不同的结合位点;高亲和力结合位点的离解常数和最大表观结合量分别为Kd1=116.83μmol.L-1,Qmax1=68.98μmol.g-1;低亲和力结合位点的离解常数和最大表观结合量分别为Kd2=12.75μmol.L-1,Qmax2=15.13μmol.g-1.与此同时,DC分子印迹聚合物对DC呈现出高的选择吸附特性.; 丁彦庭张成丽周艳梅窦俊超; 关键词：分子印迹聚合物分子识别

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窦俊超